是我廠專門為大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì)的小型化產(chǎn)品，可用于薄膜材料的制備和等離子體物理等方面的研究工作，并且特別適宜于大中專學(xué)校的材料、化學(xué)工程與工藝、物理等的學(xué)生實(shí)驗(yàn)。該裝置利用微波能激勵(lì)稀薄氣體放電在石英管中產(chǎn)生穩(wěn)態(tài)等離子體，通過通入不同的工作氣體，可進(jìn)行功能薄膜材料的制備、化學(xué)合成、表面刻蝕、等離子體診斷等多方面的實(shí)驗(yàn)。

1 主要配置

1. 2.45GHz，0~500W微波功率連續(xù)可調(diào)，可滿足不同實(shí)驗(yàn)的要求；
2. ф50mm的石英管真空室，帶有一個(gè)觀察窗和一個(gè)診斷窗口，各種實(shí)驗(yàn)方便進(jìn)行；
3. 石英管采用水冷卻，可裝置在高功率條件下安運(yùn)行；
4. 配置了3路氣體管路，氣體流量控制方便；真空測(cè)量系統(tǒng)及控制閥門可真空室所需的真空環(huán)境。

2 典型實(shí)驗(yàn)
1. 等離子體化學(xué)氣相沉積
A（氣）+B（氣）→ C（固）+D（氣）
反應(yīng)氣體A、B被激發(fā)為等離子體狀態(tài)，其活性基團(tuán)發(fā)生反應(yīng)生成所需要的固態(tài)物沉積在基片上，可用于薄膜或納米材料的合成。如金剛石薄膜氮化碳薄膜、碳納米材料等。

2. 等離子體表面刻蝕
A（氣）+B（固）→ C（氣）
反應(yīng)氣體A 被激發(fā)為等離子體狀態(tài)與固體B表面原子發(fā)生反應(yīng)生成氣態(tài)物C，可用于集成電路的刻蝕實(shí)驗(yàn)。

3. 等離子體催化反應(yīng)
利用等離子體中豐富的活性成分，如紫外和可見光子、電子、離子、自由基；高反應(yīng)性的中性成分，如活性原子，受激原子態(tài)，從而引發(fā)在常規(guī)化學(xué)反應(yīng)中不能或很難實(shí)現(xiàn)的化學(xué)反應(yīng)。

4. 等離子體表面改性
A（氣）+B（固）→ C（固）
反應(yīng)氣體A 被激發(fā)為等離子體狀態(tài)與固體B表面發(fā)生反應(yīng)生成新的化合物從而達(dá)到改變B物質(zhì)表面性質(zhì)的目的?？捎糜诟叻肿硬牧?、金屬材料及材料的表面改性實(shí)驗(yàn)。