上海伯東Hakuto(NS) 離子蝕刻系統(tǒng):
NS 產(chǎn)品包含小型離子蝕刻用于研究分析和大型離子蝕刻系統(tǒng)用于生產(chǎn)制造。離子蝕刻系統(tǒng)對(duì)磁性材料、黃金、鉑和合金金屬提供*蝕刻技術(shù).它很容易做各種材料的蝕刻.
離子蝕刻系統(tǒng)主要應(yīng)用:
薄膜磁頭 (Thin film Magnetic Head).
自旋電子學(xué) (Spintronics)
MR Sencer
微電子機(jī)械系統(tǒng) (MEMS Micro-electromechanical Systems)
射頻設(shè)備 (RF Devices)
光學(xué)組件 (Optical Component)
超導(dǎo)電性 (Super Conductivity)
產(chǎn)品包含如下三種:
10 IBE (10cm 離子源)
小型整合離子束適合研究使用
8cm 或 10cm 考夫曼離子源
基片尺寸:直徑 4英寸 X 1片
單一直接冷卻平臺(tái)
20IBE-C(20cm 離子源)
離子束蝕刻系統(tǒng)適合生產(chǎn)制造
20cm 考夫曼離子源
基片尺寸:
直徑 3英寸 X 8片
直徑 4英寸 X 6片
直徑 6英寸 X 4片
圖形線路化,蝕刻均勻性佳
20IBE-J (20cm 離子源)
大型離子束蝕刻系統(tǒng)
20cm 考夫曼離子源
基片尺寸:
直徑 4英寸 X 12片
直徑 5英寸 X 10片
直徑 6英寸 X 8片
圖形線路化,蝕刻均勻性佳
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