簡(jiǎn)介

反滲透裝置應(yīng)用膜分離技術(shù)，能有效地去除水中的帶電離子、無(wú)機(jī)物、膠體微粒、細(xì)菌及有機(jī)物質(zhì)等。是高純水制備、苦咸水脫鹽和廢水處理工藝中的很好設(shè)備。廣泛用于電子、醫(yī)藥、食品、輕紡、化工、發(fā)電等領(lǐng)域。

系統(tǒng)組成

預(yù)處理系統(tǒng)

一般包括原水泵、加藥裝置、石英砂過(guò)濾器、活性炭過(guò)濾器、精密過(guò)濾器等。其主要作用是降低原水的污染指數(shù)和余氯等其他雜質(zhì)，達(dá)到反滲透的進(jìn)水要求。預(yù)處理系統(tǒng)的設(shè)備配置應(yīng)該根據(jù)原水的具體情況而定。

反滲透裝置

主要包括多級(jí)高壓泵、反滲透膜元件、膜殼(壓力容器)、支架等組成。其主要作用是去除水中的雜質(zhì)，使出水滿足使用要求。

后處理系統(tǒng)

是在反滲透不能滿足出水要求的情況下增加的配置。主要包括陰床、陽(yáng)床、混床、殺菌、超濾、EDI等其中的一種或者多種設(shè)備。后處理系統(tǒng)能把反滲透的出水水質(zhì)更好的提高，使之滿足使用要求。

清洗系統(tǒng)

主要有清洗水箱、清洗水泵、精密過(guò)濾器組成。當(dāng)反滲透系統(tǒng)受到污染出水指標(biāo)不能滿足要求時(shí)，需要對(duì)反滲透進(jìn)行清洗使之恢復(fù)功效。

電氣控制系統(tǒng)

是用來(lái)控制整個(gè)反滲透系統(tǒng)正常運(yùn)行的。包括儀表盤(pán)、控制盤(pán)、各種電器保護(hù)、電氣控制柜等。

反滲透裝置的清洗方法

反滲透技術(shù)因具有特殊的*性而得到日益廣泛的應(yīng)用。反滲透凈水設(shè)備的清洗問(wèn)題可能使許多技術(shù)力量不強(qiáng)的用戶遭受損失，所以要做好反滲透裝置的管理，就可以避免出現(xiàn)嚴(yán)重的問(wèn)題。

1.低壓沖洗反滲透裝置

定期對(duì)反滲透裝置進(jìn)行大流量、低壓力、低pH值的沖洗有利于剝除附著在膜表面上的污垢，維持膜性能，或當(dāng)反滲透裝置進(jìn)水SDI突然升高超過(guò)5.5以上時(shí)，應(yīng)進(jìn)行低壓沖洗，待SDI值調(diào)至合格后再開(kāi)機(jī)。

2.反滲透裝置停運(yùn)保護(hù)

由于生產(chǎn)的波動(dòng)，反滲透裝置不可避免地要經(jīng)常停運(yùn)，短期或*停用時(shí)必須采取保護(hù)措施，不適當(dāng)?shù)靥幚頃?huì)導(dǎo)致膜性能下降且不可恢復(fù)。

短期保存適用于停運(yùn)15d以下的系統(tǒng)，可采用每1~3d低壓沖洗的方法來(lái)保護(hù)反滲透裝置。實(shí)踐發(fā)現(xiàn)，水溫20℃以上時(shí)，反滲透裝置中的水存放3d就會(huì)發(fā)臭變質(zhì)，有大量細(xì)菌繁殖。因此，建議水溫高于20℃時(shí)，每2d或1d低壓沖洗一次，水溫低于20℃時(shí)，可以每3d低壓沖洗一次，每次沖洗完后需關(guān)閉凈水設(shè)備反滲透裝置上所有進(jìn)出口閥門(mén)。

*停用保護(hù)適用于停運(yùn)15d以上的系統(tǒng)，這時(shí)必須用保護(hù)液(殺菌劑)充入凈水設(shè)備反滲透裝置進(jìn)行保護(hù)。常用殺菌劑配方(復(fù)合膜)為甲醛10(質(zhì)量分?jǐn)?shù))、異噻唑啉酮20mg/L、亞硫酸氫鈉1(質(zhì)量分?jǐn)?shù))。

3.反滲透膜化學(xué)清洗

在正常運(yùn)行條件下，反滲透膜也可能被無(wú)機(jī)物垢、膠體、微生物、金屬氧化物等污染，這些物質(zhì)沉積在膜表面上會(huì)引起凈水設(shè)備反滲透裝置出力下降或脫鹽率下降、壓差升高，甚至對(duì)膜造成不可恢復(fù)的損傷，因此，為了恢復(fù)良好的透水和除鹽性能，需要對(duì)膜進(jìn)行化學(xué)清洗。

一般3~12個(gè)月清洗一次，如果每個(gè)月不得不清洗一次，這說(shuō)明應(yīng)該改善的預(yù)處理系統(tǒng)，調(diào)整的運(yùn)行參數(shù)。如果1~3個(gè)月需要清洗一次，則需要提高設(shè)備的運(yùn)行水平，是否需要改進(jìn)預(yù)處理系統(tǒng)較難判斷。