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主要是由于定轉(zhuǎn)子之間相對(duì)的高速運(yùn)動(dòng)產(chǎn)生的高剪切作用 ,同時(shí)伴隨著較強(qiáng)的空穴作用對(duì)物料顆粒進(jìn)行分散、細(xì)化、均質(zhì)的 ;而高壓均質(zhì)機(jī)主要是靠高壓流體產(chǎn)生的強(qiáng)烈、充分的空穴效應(yīng)和湍流作用使流體分散相中的顆粒破碎達(dá)到均質(zhì)目的。
不難理解 ,由于*烈的空穴作用 ,高壓均質(zhì)機(jī)對(duì)處理軟性、半軟性的顆粒狀物料比較合適 ;研究發(fā)現(xiàn)對(duì)于纖維的粉碎zui有效的力場是剪切力和研磨力 ,常溫下沖擊力對(duì)纖維是無能為力的 ,而能對(duì)物料產(chǎn)生強(qiáng)烈的剪切與研磨作用 ,因此比較適合處理含纖維較多或者理,容易出現(xiàn)稀奶油層 ,較硬的顆粒物料。
對(duì)于納米的物料分散均質(zhì)一直是人們關(guān)注的熱點(diǎn)，納米分散存在著難以解決的問題，納米物料分散到流體物質(zhì)當(dāng)中容易形成二級(jí)團(tuán)聚體，導(dǎo)致物料粒徑變大，難以分散。從而使zui終的乳化液體系不穩(wěn)定，容易沉降分層。面對(duì)這種情況，IKN研發(fā)出新型設(shè)備的納米均質(zhì)機(jī)，應(yīng)對(duì)納米物質(zhì)的分散均質(zhì)問題。并有著廣泛的實(shí)例，如納米級(jí)白炭黑的分散，納米級(jí)石墨烯的分散，都在使用IKN納米研磨均質(zhì)機(jī)進(jìn)行分散處理，*。
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上海依肯自主研發(fā)生產(chǎn)的納米均質(zhì)機(jī)，具有高轉(zhuǎn)速、低能耗、低噪音、高壽命等優(yōu)勢，經(jīng)過IKN全體研發(fā)生產(chǎn)部員工的不懈努力，終于解決了均質(zhì)機(jī)的提速問題。市場上一般使用的均質(zhì)機(jī)由于定轉(zhuǎn)子精度以及機(jī)械密封的原因，轉(zhuǎn)速zui高只能達(dá)到2910轉(zhuǎn)，而IKN研發(fā)的納米均質(zhì)機(jī)將轉(zhuǎn)速提高到9000轉(zhuǎn)，剪切力更強(qiáng)，分散乳化均質(zhì)效果更佳。
納米的特點(diǎn)
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①具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。
②該設(shè)備可以適用于各種分散乳化均質(zhì)工藝，也可用于生產(chǎn)包括對(duì)乳狀液、懸浮液和膠體的均質(zhì)混合。
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③納米均質(zhì)機(jī)由定、轉(zhuǎn)子系統(tǒng)所產(chǎn)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。
納米設(shè)備型號(hào)表
型號(hào) | 標(biāo)準(zhǔn)流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 標(biāo)準(zhǔn)線速度 m/s | 馬達(dá)功率 KW | 進(jìn)口尺寸 | 出口尺寸 |
ER2000/4 | 300-1，000 | 9，000 | 23 | 2.2 | DN25 | DN15 |
ER2000/5 | 3，000 | 6，000 | 23 | 7.5 | DN40 | DN32 |
ER2000/10 | 8，000 | 4，200 | 23 | 15 | DN50 | DN50 |
ER2000/20 | 20，000 | 3，000 | 23 | 37 | DN80 | DN65 |
ER2000/30 | 40，000 | 1，500 | 23 | 55 | DN150 | DN125 |
ER2000/40 | 70，000 | 1，500 | 23 | 90 | DN150 | DN125 |
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