藥用輔料硬脂酸鹽研磨分散機，研磨分散機,硬脂酸鹽分散機,藥用研磨分散機，管線式研磨分散機，高剪切研磨分散機
研磨分散機是上海依肯研發(fā)，特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良，在原來CM2000系列研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。在膠體磨的基礎(chǔ)上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤。
藥用輔料硬脂酸鹽 硬脂酸鹽：硬脂酸鈉、*、硬脂酸鈣、硬脂酸鉛、硬脂酸鋁、硬脂酸鎘、硬脂酸鐵、硬脂酸鉀,硬脂酸鋅。
廣泛用于制化妝品、塑料耐寒增塑劑、脫模劑、穩(wěn)定劑、表面活性劑、橡膠硫化促進劑、防水劑、拋光劑、金屬皂、金屬礦物浮選劑、軟化劑、品及其他有機化學品。
超高速研磨分散機的細化作用一般來說要強于均質(zhì)機,砂磨機，但它對物料的適應(yīng)能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。
超高速研磨式分散機是由超高速膠體磨,超高速分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
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第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應(yīng)用。
CMXD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
超高速研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
CMXD 2000/4 | 300 | 21,000 | 66 | 5.5 | DN25/DN15 |
CMXD 2000/5 | 1000 | 15,750 | 66 | 18 | DN40/DN32 |
CMXD 2000/10 | 4000 | 10,500 | 66 | 37 | DN80/DN65 |
CMXD 2000/20 | 10000 | 7,930 | 66 | 75 | DN80/DN65 |
CMXD 2000/30 | 20000 | 4,900 | 66 | 132 | DN150/DN125 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到zuida允許量的10%。 | |||||
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度，稠度和zui終產(chǎn)品的要求。
3 如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準確的參數(shù)，以便選型和定制。
4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動，定制而不符，正確的參數(shù)以提供的實物為準。
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