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                        對于納米的物料分散一直是人們關注的熱點，納米分散存在著難以解決的問題，納米物料分散到流體物質當中容易形成二級團聚體，導致物料粒徑變大，難以分散。面對這種情況，IKN研發(fā)出新型設備-研磨分散機，應對納米物質的分散問題。并有著廣泛的實例，如納米級白炭黑的分散，納米級石墨烯的分散，都在使用IKN研磨分散機進行分散處理，*。

  CMD2000系列研磨分散設備是IKN（上海）公司經過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

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級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
           

    
 第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。

納米分散機的特點

1   線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。

2   定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3   定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

4   在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

5   高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
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