制藥廠廢氣處理設(shè)備等離子體具有導(dǎo)電和受電磁影響的許多方面與固體、液體和氣體不同，因此又有人把它稱為物質(zhì)的第四種狀態(tài)。根據(jù)狀態(tài)、溫度和離子密度，等離子體通?？梢苑譃楦邷氐入x子體和低溫等離子體（包子體和冷等離子體）。其中高溫等離子體的電離度接近1，各種粒子溫度幾乎相同系處于熱力學(xué)平衡狀態(tài)，它主要應(yīng)用在受控?zé)岷朔磻?yīng)研究方面。而低溫等離子體則學(xué)非平衡狀態(tài)，各種粒子溫度并不相同。其中電子溫度( Te)≥離子溫度(Ti)，可達(dá)104K以上，而其離子和中性粒子的溫度卻可低到300～500K。一般氣體放電子體屬于低溫等離子體。

制藥廠廢氣處理設(shè)備光催化是常溫深度反應(yīng)技術(shù)。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機(jī)污染物*氧化成無毒無害的產(chǎn)物，而傳統(tǒng)的高溫焚燒技術(shù)則需要在*的溫度下才可將污染物摧毀，即使用常規(guī)的催化、氧化方法亦需要高溫。

特點(diǎn)：

① 采用單級(jí)或多級(jí)串聯(lián)洗滌，對(duì)污染物去除*，去除效率高。

② 處理高濃度惡臭廢氣具有明顯優(yōu)勢(shì)，運(yùn)行穩(wěn)定。

③ 具有啟動(dòng)速度快、可間歇運(yùn)行、耐沖擊負(fù)荷強(qiáng)、

受溫度影響小、運(yùn)行穩(wěn)定等特點(diǎn)。

④ 自動(dòng)化程度高，占地面積小。

Wintop-CW化學(xué)洗滌除臭設(shè)備適用于污水處理廠、制藥廠、化工廠等具有堿性或酸性且濃度比較高的尾氣治理。

① 活性炭除臭設(shè)備采取切線出風(fēng)、環(huán)狀過濾、中間進(jìn)風(fēng)、上不加料、下部卸料的結(jié)構(gòu)，克服了傳統(tǒng)的活性炭過濾器過濾阻力大、面積小、占地面積大、設(shè)備投資高、更換活性炭困難等缺陷，使活性炭過濾設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)近乎于*。

② 活性炭除臭設(shè)備是等體積傳統(tǒng)活性炭過濾設(shè)備過濾面積的2~4倍，阻力只有傳統(tǒng)的1/2~1/3。環(huán)形活性炭?jī)艋b置由于采用切線出風(fēng)，其方向不受場(chǎng)地條件限制可任意擺放，抽風(fēng)機(jī)和設(shè)備對(duì)接極易，排放管可直接固定于設(shè)備上，系統(tǒng)整齊合理。

廢氣的產(chǎn)生部位比較多，并且分散在車間中，因此在處理廢氣之前必須先把廢氣收集起來，所以需要集氣系統(tǒng)對(duì)其進(jìn)行收集后統(tǒng)一進(jìn)行處理。