靶材:在濺射沉積技術中用做陰極的材料。該陰極材料在帶正電荷的陽離子撞擊下以分子、原子或離子的形式脫離陰極而在陽極表面重新沉積。濺射靶材 鉬旋轉靶材 定制金屬靶材廠家
鍍膜靶材:通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話,靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料,用于高能激光器中,不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時,會產生不同的殺傷破壞效應。濺射靶材 鉬旋轉靶材 定制金屬靶材廠家
分類:
按照制造工藝分類,可以分為粉末冶金靶材,熔煉鑄造靶材,等離子噴涂靶材。
按照使用形式可分為蒸發(fā)材料、電弧靶材、濺射靶材。
按照材質可分為金屬靶材、合金靶材、陶瓷靶材等。
產品名稱:鉬靶材
純度:W≥99.95%
屬性:密度10.2g/cm3,熔點2610℃,沸點5560℃
規(guī)格:定制
圓形靶:直徑>360mmX厚度>1mm
板靶:長<300mmX寬<300mmX厚度>1mm
旋轉靶:直徑<360mmX厚度>2mm
包裝方式:木箱包裝
應用:廣泛用于導電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學玻璃、離子鍍膜等行業(yè),適用所有平面鍍膜及旋轉鍍膜系統(tǒng)。本公司根據(jù)客戶需求,提供各種材質,各種規(guī)格金屬靶材,可來圖加工、來料加工。