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昆山國華等離子處理設備去半導體氧化膜

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公司名稱昆山國華電子科技有限公司
品牌
型號GH-13MH
所在地蘇州市
廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
更新時間2019/8/21 11:00:07
訪問次數(shù)587

產(chǎn)品標簽:

等離子處理設備去半導體氧化膜表面處理進口鋁昆山國華

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昆山國華電子科技有限公司是一家集等離子技術(shù)研發(fā)、生產(chǎn)、銷售和推廣于一體的高科技公司：秉承“服務創(chuàng)造價值、技術(shù)成就未來”的宗旨，為客戶提供表面處理領域的整體解決方案。

公司由多名*從事等離子體技術(shù)應用研究，設備制造和銷售的業(yè)內(nèi)*人事創(chuàng)建。核心技術(shù)發(fā)展于歐洲，同時充分借鑒歐美的*技術(shù)，并通過與國內(nèi)外研發(fā)機構(gòu)合作，整合各行業(yè)的資源優(yōu)勢，生產(chǎn)出多系列具有自主知識產(chǎn)權(quán)的高性能的等離子體處理系統(tǒng)。集團合作團隊包括 EUROPLASMA、PSM等，應用領域涉及電子、光電、汽車、塑膠、紡織、生物、醫(yī)療、化工、日用品及家電等行業(yè)。

公司成立以來已為眾多企業(yè)、大學院校、研究機構(gòu)提供等離子體處理設備和解決方案。售前可免費提供試樣和方案認證，以竭誠服務各領域科研項目為公司的宗旨。

我們倡導技術(shù)創(chuàng)新，充分發(fā)揮新技術(shù)在企業(yè)經(jīng)營中的主導作用，以滿足客戶的個性化需求為己任，為客戶提供與等離子處理系統(tǒng)相關(guān)技術(shù)的支持與服務，致力于成為*的行業(yè)*！

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昆山國華電子科技有限公司

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昆山國華等離子處理設備去半導體氧化膜:對具有半導體特性的一類氧化物。氧化物半導體的電學性質(zhì)與環(huán)境氣氛有關(guān)。導電率隨氧化氣氛而增加稱為氧化型半導體，是p型半導體;電導率隨還原氣氛而增加稱為還原型半導體，是n型半導體;導電類型隨氣氛中氧分壓的大小而成p型或n型半導體稱為兩性半導體。非單晶氧化物可用純金屬高溫下直接氧化或通過低溫化學反應（如金屬氯化物與水的復分解反應）來制備。氧化物單晶的制

昆山國華等離子處理設備去半導體氧化膜產(chǎn)品信息

昆山國華等離子處理設備去半導體氧化膜

作為"新一代電子的基礎材料"而備受顯示器技術(shù)人員關(guān)注的就是氧化物半導體TFT。因為氧化物半導體TFT是驅(qū)動超高精細液晶面板、有機EL面板以及電子紙等新一代顯示器的TFT材料佳候選之一。預計早將在2012~2013年開始實用化，將來或許還會成為具備"柔性"和"透明"等特點的電子元件的實現(xiàn)手段。

氧化物半導體是通常容易成為絕緣體的氧化物，但卻具有半導體的性質(zhì)。在眾多物質(zhì)當中，受關(guān)注的是"透明非晶氧化物半導體(TAOS:TransparentAmorphous Oxide Semiconductors)"。非晶IGZO(In-Ga-Zn-O)就是一個代表性例子。除了三星和LG顯示器等韓國企業(yè)外，日本的夏普、凸版印刷以及佳能等企業(yè)也在致力于TFT的應用開發(fā)。

TAOS類TFT的載流子遷移率高達250px2/Vs以上，特性不均現(xiàn)象也較小。因此，可驅(qū)動像素為"4K×2K"(4000×2000像素級)、驅(qū)動頻率為240Hz的新一代高清晰液晶顯示器。當前的標準技術(shù)--非晶硅類TFT以及作為新一代技術(shù)而被大力開發(fā)的有機半導體TFT因載流子遷移率只有數(shù)cm2/Vs以下，很難應用到上述用途中。即使是在有機EL顯示器領域，與開發(fā)案例較多的低溫多晶硅類TFT相比，實現(xiàn)大屏幕化時還是TAOS類TFT具有優(yōu)勢這是因為AOS類TFT可以抑制有機EL面板中存在著的因TFT特性不均而導致的顯示不均現(xiàn)象。TAOS薄膜可通過濺射法形成，制造成本也容易降低。

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