ICP-LP-PE-CVD多功能寬密度等離子體結(jié)合了電感耦合和電容耦合輝光放電的優(yōu)點(diǎn)，可在寬密度工藝范圍（109-1013 cm-3)實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的等離子體輔助CVD，具有優(yōu)良的材料處理性能和廣泛的應(yīng)用范圍，是目前功能強(qiáng)大的等離子體CVD系統(tǒng)。

NextCVD 的原創(chuàng)性高密度低頻平板式電感耦合等離子體系統(tǒng)。頻率可調(diào)節(jié)，從低頻0.5- 4MHz范圍內(nèi)調(diào)節(jié)；電感天線是平板式，可根據(jù)客戶(hù)要求改變天線的形狀、大小，從而實(shí)現(xiàn)兩種不同的放電模式：電感放電和電容放電，兩種模式下都能實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定放電，兩種模式的等離子體特性截然不同，可以實(shí)現(xiàn)不同的功能。

ICP-LP-PE-CVD多功能寬密度等離子體產(chǎn)品特點(diǎn)
基片臺(tái)可電動(dòng)旋轉(zhuǎn)、可加熱、可升降
配裝手動(dòng)高真空插板閥、手動(dòng)角閥、電腦復(fù)合真空計(jì)
由于采用了超高真空密封技術(shù)，極限真空度高，沉積室可進(jìn)入10-5Pa量級(jí)，可保證更高的鍍膜純凈度，提高鍍膜質(zhì)量
自動(dòng)監(jiān)控和保護(hù)功能，包括缺水欠壓檢測(cè)與保護(hù)、相序檢測(cè)與保護(hù)、溫度檢測(cè)與保護(hù)、真空系統(tǒng)檢測(cè)與保護(hù)等
配備可開(kāi)關(guān)觀察窗，方便觀察及取樣品
設(shè)備真空系統(tǒng)采用分子泵+機(jī)械泵真空機(jī)組
采用磁力耦合傳動(dòng)密封技術(shù)密封運(yùn)動(dòng)部件
真空規(guī)用金屬規(guī)，刀口金屬密封

性能技術(shù)參數(shù)
設(shè)備極限真空度：5.0×10-5Pa（等離子體沉積腔室）。5.0×10-1Pa進(jìn)樣室
高密度等離子體：電子密度高能達(dá)到1013 cm-3
氣體物離化率：1-10%
電感耦合離子體電源發(fā)生器頻率從0.5-4 MHz可調(diào)，功率可從0-5000 W調(diào)節(jié)
電感天線有橢圓和圓形兩種，相應(yīng)等離子源石英窗口形狀也有橢圓和圓形兩種，相應(yīng)等離子體放電模式也有電感和電容模式兩種，可根據(jù)用途選擇。等離子體源石英窗口大小可根據(jù)要求進(jìn)行調(diào)節(jié)
供電：～380V三相供電系統(tǒng)（容量7KW），冷卻水循環(huán)量1M3/H，工作環(huán)境溫度10℃～35℃，冷卻水溫度18℃～25℃