產(chǎn)品應(yīng)用
V2科研用真空爐是用石墨作發(fā)熱元件的真空電阻爐,供金屬化合物、陶瓷、無機化合物等在真空或保護氣氛中燒結(jié)制品,也可用于金屬材料的熱處理。主要應(yīng)用于電容、鉭材等金屬及由難熔金屬組成的合金材料、陶瓷材料碳化硅及氮化硅的高溫?zé)Y(jié)、也可以供金屬材料在高真空條件下的高溫?zé)崽幚砘蛸F金屬材料的除氣處理。
配置選項:
設(shè)備結(jié)構(gòu)合理,設(shè)計及制造符合相應(yīng)的國家及行業(yè)標(biāo)準和規(guī)范,使用、操作、維修方便簡捷,配套產(chǎn)品和元器件具有*水平,可穩(wěn)定、安全、可靠地滿足生產(chǎn)需求。
- 1、多種測溫方式( K,S,B,WRe 等熱電偶,紅外測溫儀)或組合選擇;
- 2、立式爐膛,上 / 下取料; 3、 高溫金屬(鉬、鎢)/石墨材料加熱系統(tǒng)選擇,方便不同溫度或材料工藝需求;
產(chǎn)品特點
- 均勻的加熱、可靠的隔熱及測溫: 合理的加熱結(jié)構(gòu),優(yōu)良的材質(zhì),保證真空狀態(tài)下爐溫的均勻性,采用品牌測溫元件,準確測溫。
- *的自動控制及可靠的安全聯(lián)鎖: 采用計算機實現(xiàn)溫度、動作過程全自動控制、
PLC 實現(xiàn)安全聯(lián)鎖,具有超壓、超溫水溫過高等聲光報警及聯(lián)鎖工能。 - 可配置高生產(chǎn)效率的快冷系統(tǒng): 配有內(nèi)循環(huán)快速冷卻裝置,高效換熱技術(shù)多方向吹向工件,冷卻快速均勻。較之外循環(huán)快速冷卻裝置,又具有占地小,面積小,起動溫度高,真空抽速快等優(yōu)點。
V2科研用真空爐技術(shù)參數(shù)
產(chǎn)品型號 | 加熱 | 設(shè)備 | 裝取料方式 | 工作區(qū) | 溫度范圍( ℃ ) | 冷態(tài)極限真空度( Pa ) | 真空泵配置(選配) | 備注 |
VVSgr-10/12-2000 | 石墨 | 立式 | 上裝料 / 下裝料 | Φ100×120 | 1600/2000/2400 | 8.0×10-3/10-4 | 擴散泵 / 分子泵 | 實驗用 |