電子束納米曝光系統(tǒng) DY-2000A系統(tǒng)組成：電子光學(xué)系統(tǒng)（掃描電子顯微鏡）、圖形發(fā)生器、精密工件臺(tái)、控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、精密電源。

電子束納米曝光系統(tǒng) DY-2000A主要應(yīng)用：

1：半導(dǎo)體器件研究：微波晶體管，單電子晶體管，量子點(diǎn)，超導(dǎo)環(huán)等

2：光電子器件研究：特種光柵，菲涅爾波帶板，晶體檢波器，光波導(dǎo)，光集成器件

3：微機(jī)械研究：微納機(jī)電系統(tǒng)，微通道，微傳感器，3D微結(jié)構(gòu)

4：消費(fèi)電子研究：全息光學(xué)元件，新一代DVD光，光學(xué)傳感器，磁頭，聲表面波器件

5：其他研究：非生產(chǎn)掩膜板制作，圖形位置標(biāo)定和CD測(cè)量
    納米圖形發(fā)生器DY-2000是電子束納米曝光系統(tǒng)DY-2000的核心部件，由*電工研究所自主研發(fā)、生產(chǎn)。吸納了近年來數(shù)字信號(hào)處理的全新成果,利用高性能數(shù)字信 號(hào)處理器(DSP)將要曝光的單元圖形拆分成線條和點(diǎn),然后通過優(yōu)化設(shè)計(jì)的數(shù)模轉(zhuǎn)換電路,將數(shù)字量轉(zhuǎn)化成高精度的模擬量,驅(qū)動(dòng)掃描電鏡的偏轉(zhuǎn)器,實(shí)現(xiàn)電子束的掃描。 

為此目的特構(gòu)建了x方向和y方向兩組數(shù)模轉(zhuǎn)換電路,每組包括1個(gè)16位主數(shù)模和3個(gè)16位乘法數(shù)模。通過圖形發(fā)生器可以對(duì)標(biāo)準(zhǔn)樣片進(jìn)行圖像采集,進(jìn)行掃描場(chǎng)的線性畸變校正,包括掃描場(chǎng)增益、旋轉(zhuǎn)和位移校正。另外,圖形發(fā)生器還可以控制束閘的通斷。配合精密定位工件臺(tái)和激光干涉儀,可以實(shí)現(xiàn)曝光場(chǎng)的拼接。通過檢測(cè)芯片的標(biāo)記,還可以實(shí)現(xiàn)曝光圖形的套刻，利用配套軟件既可以新建曝光圖形,也可以導(dǎo)入通用格式文件,例如CIF和GDSII文件,進(jìn)行曝光參數(shù)設(shè)置、圖形修正、圖形分割、鄰近效應(yīng)修正等工作，然后將曝光圖形數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成圖形發(fā)生器可以識(shí)別的EDF文件,完成曝光圖形的準(zhǔn)備工作。