大口徑等離子清洗機處理廠家：誠峰智造

自動On-Line（軸輪式）式AP等離子處理系統(tǒng)CRF-APO-500W

型號（Model）

CRF-APO-500W

電源（Power supply）

220V/AC,50/60Hz

功率（Power）

2set*1000W/25KHz(Option)

處理寬幅（Processing width）

50mm-500mm（Option）

有效處理高度（Processing height）

5-15mm

處理速度（Processing speed）

0-5m/min

傳動方式（Drive mode）

防靜電絕緣滾輪

噴頭數(shù)量（Number）

2（Option）

工作氣體（Gas）

Compressed Air（0.4mpa）

產(chǎn)品特點：配置專業(yè)運動控制平臺，PLC+觸摸屏控制方式，采用運動模組，操作簡便；

可選配噴頭數(shù)量，滿足客戶多元化需求；

配置專業(yè)集塵系統(tǒng)，保證產(chǎn)品品質(zhì)和設備的整潔、干凈；

應用范圍：主要應用于電子行業(yè)的殼印刷、涂覆、點膠等前處理，屏幕的表面處理；國防工業(yè)的航天電連接器表面清洗；通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉(zhuǎn)移印刷前處理等。

等離子體中粒子的能量一般約為幾個至幾十電子伏特，大于聚合物材料的結(jié)合鍵能(幾個至十幾電子伏特)，可以破裂有機大分子的化學鍵而形成新鍵；但遠低于高能放射性射線，只涉及材料表面，不影響基體的性能。

處于非熱力學平衡狀態(tài)下的低溫等離子體中，電子具有較高的能量，可以斷裂材料表面分子的化學鍵，提高粒子的化學反應活性(大于熱等離子體)，而中性粒子的溫度接近室溫,這些優(yōu)點為熱敏性高分子聚合物表面改性提供了適宜的條件。

選擇適宜的放電方式可獲得不同性質(zhì)和應用特點的等離子體，通常，熱等離子體是氣體在大氣壓下電暈放電產(chǎn)生，冷等離子體由低壓氣體輝光放電形成。

熱等離子體裝置是利用帶電體(如刀狀或針狀和狹縫式電極)造成不均勻電場,稱電暈放電,使用電壓和頻率、電極間距、處理溫度和時間對電暈處理效果都有影響。電壓升高、電源頻率增大,則處理強度大,處理效果好。
但電源頻率過高或電極間隙太寬，會引起電極間過多的離子碰撞，造成不必要的能量損耗；而電極間距太小，會有感應損失，也有能量損耗。處理溫度較高時，表面特性的變化較快、處理時間延長，極性基團會增多；但時間過長，表面則可能產(chǎn)生分解物,形成新的弱界面層。

冷等離子體裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電場，用真空泵實現(xiàn)一定的真空度,隨著氣體愈來愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離也愈來愈長，受電場作用,它們發(fā)生碰撞而形成等離子體，這時會發(fā)出輝光，故稱為輝光放電處理。輝光放電時的氣壓大小對材料處理效果有很大影響，另外與放電功率，氣體成分及流動速度、材料類型等因素有關。

不同的放電方式、工作物質(zhì)狀態(tài)及上述影響等離子體產(chǎn)生的因素,相互組合可形成各種低溫等離子體處理設備。