plasma真空等離子清洗機供應商：誠峰智造
真空式等離子處理系統(tǒng)CRF-VPO-MC-6L
名稱（Name）
真空式等離子處理系統(tǒng)
型號（Model）
CRF-VPO-MC-6L
控制系統(tǒng)（Control system）
PLC+觸摸屏
電源（Power supply）
380V/AC,50/60Hz,12.5kw
中頻電源功率（MF Power）
2000W/40kHz
容量（Volume）
235L（Option）
層數(shù)（Electrode of plies）
6（Option）
有效處理面積（Area）
500（L）*500（W）（Option）
氣體通道（Gas）
兩路工作氣體可選： Ar、N2、CF4、O2
產(chǎn)品特點：處理空間大，提升處理產(chǎn)能，采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，有效控制設(shè)備運行。
可按照客戶要求定制設(shè)備腔體容量和層數(shù)，滿足客戶的需求。
保養(yǎng)維修成本低，便于客戶成本控制。
高精度，快響應，良好的操控性和兼容性，完善的功能和專業(yè)的支持。
應用范圍：主要適用于生物醫(yī)療行業(yè)，印制線路板行業(yè)，半導體IC領(lǐng)域，硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域，汽車電子行業(yè)，工業(yè)等。
