崇左電解二氧化氯消毒設(shè)備規(guī)格
一般來說,氧化法多用于處理含酚、含氰廢水,常用氧化劑包括、漂、臭氧等。還原法多用于處理含鉻、含汞廢水,常用的還原劑包括*等。氧化分解法氧化分解法是將廢水中的有機物分解成無毒物質(zhì)的處理方法。人們現(xiàn)在研究用臭氧作氧化劑來分解廢水中的有機物,它對纖維素、木素的氧化是沒有選擇性,在-22反應中O,作為兩性離子參加反應,能選擇分解發(fā)色基團。劉全校等人直接用O,處理經(jīng)化學混凝-過濾吸附處理后的Soda:Q法麥草漿黑液,結(jié)果表明:拋(木素濃度用紫外分光光度計在波長28nm處測得的吸光度)去除率高達81%,:由775(黃色)降為.67(視覺觀察為無色),但是COD5去除率僅為l8%,BOD去除率為8%.可見O3對COBOD去除效果不明顯,而對木素去除效果明顯,也間接反應了臭氧的脫色效果明顯。催化氧化法光催化氧化法是在特殊的光照射條件下發(fā)生的有機物參與的氧化分解反應,終把有機物分解成無毒物質(zhì)的處理方法。在紫外光的照射下能產(chǎn)生氧化性*的羧基自由基,幾乎把所有的氧化物氧化為一氧化碳和H:O,且除凈度高,降解速度快,無二次污染。用水解法制得的納米級Ti:具有巨大的表面積和更強的紫外光吸收能力,因而具有更強的光催化降解能力,可快速將吸附在其表面的有機物分解掉,比普通的Ti:的降解速率高4%.實驗發(fā)現(xiàn):COD(2-氯代二噁英)在2h內(nèi)降解了93%,DCDD(2,3-二氯代二噁英)、PECDD(1,2,3,7,8-五氯代二噁英)和OCDD(氯代二噁英)在4h內(nèi)分別降解了82%、86%、和92%回,除臭氧化法、光催化氧化法以外,其他的化學還有:超聲空化法、超臨界水氧法及化學還原法等,這些方法大多還處于研究階段。
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崇左電解二氧化氯消毒設(shè)備規(guī)格
RTO(RegenerativeThermalOxidizer,蓄熱式熱氧化器)是近十幾年國內(nèi)興起的一種有機廢氣處理技術(shù)。該技術(shù)尤其適用于中低風量、中高濃度、成分復雜的有機廢氣的處理,由于其較高的處理效率、基本不產(chǎn)生二次污染、運行穩(wěn)定等優(yōu)點,受到很多地方環(huán)保部門的熱捧。但是經(jīng)過近幾年的使用,RTO也暴露出了一些問題,其中比較突出的問題就是RTO的失火、等安全問題。據(jù)國內(nèi)某石化工業(yè)園區(qū)的環(huán)保部門統(tǒng)計,該園區(qū)共有7套RTO設(shè)備,其中有3套發(fā)生過不同程度的火災、等安全事故。
1設(shè)備特點
1.1設(shè)備關(guān)鍵部件:陽極、*,均為純鈦板制作,并涂有釕、銥、鈦、鉭等特殊防腐涂層,外室采用高性能UPVC板材,解決了設(shè)備腐蝕問題。
1.2 1.2采用自動循環(huán)式溶鹽,供鹽系統(tǒng)(無需機械動力及人工攪拌)從而減輕了操作者的勞動強度,同時提高了鹽的利用率,保障了其工作的穩(wěn)定性,且產(chǎn)氣量提高了10%—15%左右。
1.3采用新工藝固定復合離子隔膜,加強了密封、同時便于離子定向遷移,延長了隔膜的使用壽命,且更換十分方便。
1.4可靠的硅整流電源,體積小、重量輕,維修十分方便。
1.5該設(shè)備采取組合式設(shè)計,具有占地面積小,維修方便,操作十分簡單。
1.6內(nèi)外室鹽、堿溶液容量,可通過顯示管直接觀察。
2 設(shè)備內(nèi)部結(jié)構(gòu)、各部位名稱及相應作用:
2.1設(shè)備內(nèi)部結(jié)構(gòu):
由電解槽和整流電源兩部份組成。
電解槽由供鹽室、內(nèi)室、外室組成。
供鹽室—將食鹽溶解成飽和食鹽水。(波美度20-22)
內(nèi)室—(陽極室)由陽極板和兩側(cè)*組成,將食鹽電解成以二氧化氯為主的多種強氧化劑
外室—(陰極室)兩側(cè)由隔膜組成,內(nèi)室食鹽溶液通過陽極、*電解,鈉離子定向遷移外室轉(zhuǎn)化為堿液和氫氣。
整流電源—電解電流輸入380V或220V,經(jīng)變壓器整流輸出低壓直流為電解提供動力。(整流電源運行時,請勿超出額定值,且低10%,可延長使用壽命)。
2.2 設(shè)備各部位名稱及相應作用:
2.2.1鹽室進水閥:打開此閥,供鹽室進水,將供鹽室內(nèi)食鹽自動溶化,(供鹽室與內(nèi)室貫通,鹽水同時流向內(nèi)室)供內(nèi)室進行電解。
2.2.2 堿室進水閥:打開此閥,由此進清水,內(nèi)室(陽極室)食鹽電解后,通過隔膜,鈉離子定向遷移外室(陰極室),清水變成堿液。為提高氯化消毒效果,確保產(chǎn)氣量穩(wěn)定,應根據(jù)設(shè)備操作具體情況,應及時排堿并補充清水。
2.2.3 電解槽內(nèi)室溫度應保持在40~50℃之間、外室溫度應保持在30-40℃之間運行,如超過此溫度,應及時打開冷卻水調(diào)整閥,進行電解槽降溫。
2.2.4 鹽室排污閥:當供鹽室內(nèi)細孔被堵住或沉積雜物過多時,打開此閥及鹽室進水閥,進行反復沖洗。(必要時,松開螺栓,取出供鹽室進行沖洗)。
2.2.5 堿室排污閥:打開此閥,排出堿液,補充清水。
2.2.6 冷卻水調(diào)整閥:當電解槽內(nèi)室溫度高于45℃、外室溫度高于40℃時,打開此閥用于降低溫度(如設(shè)備長時間內(nèi)高于50℃運行,將會導致電解槽變形)。
污水處理廠要采取一切可能的措施,加強安全管理、安全技術(shù)和安全教育工作,防止事故的發(fā)生。污水處理廠除貫徹、執(zhí)行本規(guī)定外,還必須同時嚴格執(zhí)行國家有關(guān)部門和地方人民制定的職業(yè)安全衛(wèi)生的法律、法規(guī)、規(guī)定和標準。在安全管理過程中實行責任制,企業(yè)法定代表人是安全生產(chǎn)責任人,對安全生產(chǎn)負責任。并建立安全生產(chǎn)責任人為核心的安全生產(chǎn)委員會。安全生產(chǎn)人人有責,企業(yè)員工必須認真履行各自的安全生產(chǎn)職責,做到恪盡職守,各負其責。
3 操作要求和注意事項
3.1 設(shè)備開始運行時操作程序:
3.1.1 向供鹽室加鹽—打開鹽室進水閥門(鹽在水的作用下開溶化)。并注意內(nèi)室容量液位顯示,室內(nèi)注水滿后,應及時關(guān)閉此閥。
3.1.2同時打開堿室進水閥門加滿至液位高度時,應及時關(guān)閉此閥門。
3.1.3 3.1.3檢查內(nèi)、外室+、—電極是否正確及緊固,檢查整流電流電位器,旋鈕是否在“0”位,確定無誤后,進行送電。
3.1.4 3.1.4按下整流電源開關(guān),調(diào)整電位器旋鈕,并觀察電流值。
3.1.5 3.1.5檢查水射器負壓抽氣,工作應正常。
3.1.6設(shè)備運行2-3小時后,觀察電解槽溫度,及時調(diào)整冷卻水閥,使電解槽溫度保持在40—45攝氏度。超過此溫度,應打開冷卻水調(diào)整閥。
3.17 根據(jù)處理水中的余氯數(shù)值,調(diào)節(jié)電解電流大小。
3.1.8 3.1.8設(shè)備連續(xù)運行4-8小時,打開外室排堿閥、排出堿液。打開外室進水閥,補足清水;打開溶鹽室,補足食鹽(每產(chǎn)生1g消體,需投加食鹽 1.6 g — 2 g)。
3.1.9在遇到停水時,應立即關(guān)閉電解電源,使設(shè)備停止產(chǎn)氣,避免造成消體泄露。
3.1.10 設(shè)備檢修或停用時,應將電解電流調(diào)至,軸流風機對電源冷卻5分鐘后關(guān)閉電源開關(guān),30分鐘后待水射器抽盡電解室內(nèi)殘余氣體后,關(guān)閉進水總閥。
