粉體鍍膜設(shè)備JGCF650產(chǎn)品概述
1、主要用途及應(yīng)用范圍：
?在微米級(jí)以上粉體顆粒表面沉積各種納米級(jí)單層及多層導(dǎo)電膜、半導(dǎo)體膜、絕緣膜等；
?系統(tǒng)可用于粉體顆粒表面金屬化，由顆粒表面絕緣性質(zhì)通過(guò)在表面涂覆金屬層達(dá)到表面導(dǎo)電，例：碳化硅表面鍍鈦，氧化鋁表面鍍鎳等；
?系統(tǒng)可用于粉體顆粒表面反射率的改變，應(yīng)用于化妝品、汽車(chē)等外觀粉體涂料，例：玻璃微珠鍍氧化鈦等；
?系統(tǒng)可用于粉體顆粒表面層成份改變，應(yīng)用于新型合金材料改變其中某一成份含量；
?系統(tǒng)可用于粉體顆粒表面沉積新材料，有效提高粉體固化粘結(jié)強(qiáng)度，例：金剛石粉鍍鉻等；
?廣泛應(yīng)用于粉體燒結(jié)、3D打印原材料、粉體表面光學(xué)性能改變等行業(yè)及研究方向。
2、產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn)及特點(diǎn)：為我公司專(zhuān)li技術(shù)，粉體顆粒涂覆技術(shù)國(guó)內(nèi)領(lǐng)xian，微米級(jí)粉體包覆率大于90﹪，結(jié)合力好；已能實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品系列化滿(mǎn)足科研及批量化生產(chǎn)之需求。
粉體鍍膜設(shè)備JGCF650技術(shù)參數(shù)
| 型號(hào) | JGCF650 |
| 鍍膜方式 | 磁控濺射 |
| 真空腔室 | Φ650mm×H780mm |
| 鍍膜粉量 | 500-1000克 |
| 粉體/顆粒尺寸 | ≥50um |
| 物料輥筒 | *設(shè)計(jì)的物料輥筒及振動(dòng)結(jié)果 |
| 濺射源 | 4英寸圓形平面靶2只 |
| 總功率 | ≥20KW |
| 控制方式 | PLC控制 |
| 占地面積 | 長(zhǎng)×寬：1.6m×1.4m |
北京泰科諾科技有限公司自2003年成立以來(lái)，一直專(zhuān)注于真空設(shè)備的研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造，是一家集真空薄膜新材料沉積設(shè)備、真空技術(shù)應(yīng)用設(shè)備等相關(guān)設(shè)備及其工藝的研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、銷(xiāo)售、服務(wù)于一體的*。
公司的研發(fā)中試孵化基地位于毗鄰雄安新區(qū)的任丘經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)，距離未來(lái)的雄安高鐵站約20公里，占地面積20000㎡,不僅建有包括機(jī)加工、電氣、結(jié)構(gòu)組裝，調(diào)試等多個(gè)中試生產(chǎn)車(chē)間和辦公樓以及其它輔助廠房；同時(shí)建有研發(fā)工藝、服務(wù)客戶(hù)的開(kāi)放實(shí)驗(yàn)室。公司還聘請(qǐng)了國(guó)內(nèi)外真空行業(yè)zi深的專(zhuān)家、教授作為本公司的技術(shù)顧問(wèn)，確保真空設(shè)備產(chǎn)品高水平，始終保持較強(qiáng)的自主研發(fā)能力、*的設(shè)計(jì)概念、領(lǐng)xian的技術(shù)優(yōu)勢(shì)。
