高真空電阻蒸發(fā)鍍膜機ZHD400產(chǎn)品概述：
1、適用：大專院校、科研院所及企業(yè)進行薄膜新材料的科研與小批量制備。
2、產(chǎn)品特點/用途：
? 設備一體化設計，占地面積小，*，性能穩(wěn)定，使用維護成本低；
? 設備配備4～6組蒸發(fā)源，兼容有機蒸發(fā)與無機蒸發(fā)，多元共蒸獲得復合膜/分蒸獲得多層膜，功能強大，性能穩(wěn)定；
? 適用于實驗室制備金屬單質(zhì)膜、半導體膜、有機膜，也可用于生產(chǎn)線前期工藝試驗等；
? 適用于蒸發(fā)鍍膜與手套箱環(huán)境有機融合，實現(xiàn)蒸鍍、封裝、測試等工藝無縫對接，廣泛用于鈣鈦礦太陽能電池/OPV有機太陽能電池及OLED薄膜等研究系統(tǒng)等。
高真空電阻蒸發(fā)鍍膜機ZHD400技術(shù)參數(shù)
| 型號 | ZHD400 |
| 鍍膜方式 | 多源蒸發(fā)鍍膜 |
| 真空腔室結(jié)構(gòu) | 立式方形前開門結(jié)構(gòu) |
| 真空腔室尺寸 | L400×W440×H450mm |
| 加熱溫度 | 室溫～300℃ |
| 旋轉(zhuǎn)基片臺 | 120mm×120mm |
| 基片臺升降 | 手動調(diào)節(jié)升降高度0～80mm |
| 膜厚不均勻性 | ≤±5.0% |
| 蒸發(fā)源 | 2～3組金屬源，2～3組有機源 |
| 控制方式 | PLC/PC自動控制系統(tǒng)可選 |
| 占地面積 | 主機L1750×W850×H1910mm |
| 總功率 | ≥8KW |
北京泰科諾科技有限公司自2003年成立以來，一直專注于真空設備的研發(fā)、設計、制造，是一家集真空薄膜新材料沉積設備、真空技術(shù)應用設備等相關(guān)設備及其工藝的研發(fā)、設計、制造、銷售、服務于一體的*。
公司的研發(fā)中試孵化基地位于毗鄰雄安新區(qū)的任丘經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)，距離未來的雄安高鐵站約20公里，占地面積20000㎡,不僅建有包括機加工、電氣、結(jié)構(gòu)組裝，調(diào)試等多個中試生產(chǎn)車間和辦公樓以及其它輔助廠房；同時建有研發(fā)工藝、服務客戶的開放實驗室。公司還聘請了國內(nèi)外真空行業(yè)zi深的專家、教授作為本公司的技術(shù)顧問，確保真空設備產(chǎn)品高水平，始終保持較強的自主研發(fā)能力、*的設計概念、領(lǐng)xian的技術(shù)優(yōu)勢。
