高真空電阻蒸發(fā)鍍膜機(jī) ZHD300產(chǎn)品概述
1、適用：大專院校、科研院所及企業(yè)進(jìn)行薄膜新材料的科研與小批量制備。
2、產(chǎn)品特點(diǎn)/用途：
? 設(shè)備一體化設(shè)計(jì)，占地面積小，*，性能穩(wěn)定，使用維護(hù)成本低；
? 設(shè)備配備2組蒸發(fā)源，兼容有機(jī)蒸發(fā)與無機(jī)蒸發(fā)，多元共蒸獲得復(fù)合膜/分蒸獲得多層膜，功能強(qiáng)大，性能穩(wěn)定；
? 適用于實(shí)驗(yàn)室制備金屬單質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、有機(jī)膜，也可用于生產(chǎn)線前期工藝試驗(yàn)等；
? 適用于蒸發(fā)鍍膜與手套箱環(huán)境有機(jī)融合，實(shí)現(xiàn)蒸鍍、封裝、測(cè)試等工藝無縫對(duì)接，廣泛用于鈣鈦礦太陽能電池/OPV有機(jī)太陽能電池及OLED薄膜等研究系統(tǒng)等。
高真空電阻蒸發(fā)鍍膜機(jī) ZHD300技術(shù)參數(shù)
| 型號(hào) | ZHD300 |
| 鍍膜方式 | 電阻蒸發(fā) |
| 真空腔室結(jié)構(gòu) | 玻璃鐘罩+不銹鋼底座 |
| 真空腔室尺寸 | Φ300×H360mm |
| 加熱溫度 | 室溫～250℃ |
| 旋轉(zhuǎn)基片臺(tái) | Φ100mm |
| 基片臺(tái)升降 | 無 |
| 膜厚不均勻性 | 基片臺(tái)Φ80mm范圍內(nèi)≤±5.0% |
| 蒸發(fā)源 | 2組金屬蒸發(fā)源 |
| 控制方式 | PLC+觸摸屏控制 |
| 占地面積 | 主機(jī)L1180×W800×H1180mm |
| 總功率 | ≥5KW |
北京泰科諾科技有限公司自2003年成立以來，一直專注于真空設(shè)備的研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造，是一家集真空薄膜新材料沉積設(shè)備、真空技術(shù)應(yīng)用設(shè)備等相關(guān)設(shè)備及其工藝的研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、銷售、服務(wù)于一體的*。
公司的研發(fā)中試孵化基地位于毗鄰雄安新區(qū)的任丘經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)，距離未來的雄安高鐵站約20公里，占地面積20000㎡,不僅建有包括機(jī)加工、電氣、結(jié)構(gòu)組裝，調(diào)試等多個(gè)中試生產(chǎn)車間和辦公樓以及其它輔助廠房；同時(shí)建有研發(fā)工藝、服務(wù)客戶的開放實(shí)驗(yàn)室。公司還聘請(qǐng)了國(guó)內(nèi)外真空行業(yè)zi深的專家、教授作為本公司的技術(shù)顧問，確保真空設(shè)備產(chǎn)品高水平，始終保持較強(qiáng)的自主研發(fā)能力、*的設(shè)計(jì)概念、領(lǐng)xian的技術(shù)優(yōu)勢(shì)。
