高真空磁控濺射鍍膜機(jī) JCP200設(shè)備概述
1、適用：大專院校、科研院所及企業(yè)進(jìn)行薄膜新材料的科研與小批量制備。
2、產(chǎn)品特點(diǎn)/用途：
? 設(shè)備可濺射/蒸發(fā)兩用；占地面積小，價(jià)格便宜，性能穩(wěn)定，使用維護(hù)成本低；
? 可用于制備單層及多層金屬膜、介質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、磁性膜、傳感器膜及耐熱合金膜、硬質(zhì)膜、耐腐蝕膜等；
? 鍍膜示例：銀、鋁、銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鈦、ITO、二氧化硅等；
? 單靶濺射、多靶依次濺射、共同濺射等功能。
高真空磁控濺射鍍膜機(jī) JCP200技術(shù)參數(shù)
| 型號(hào) | JCP200 |
| 真空腔室結(jié)構(gòu) | 立式上開(kāi)蓋結(jié)構(gòu)，下置抽氣系統(tǒng)，手動(dòng)氣彈簧提開(kāi)式 |
| 真空腔室尺寸 | Φ220×H300mm |
| 加熱溫度 | 室溫～500℃ |
| 濺射方式 | 向上濺射 |
| 旋轉(zhuǎn)基片臺(tái) | Φ100mm |
| 膜厚不均勻性 | Φ50mm范圍內(nèi)≤±5.0% |
| 濺射靶/蒸發(fā)電極 | Φ2英寸磁控靶1支，兼容DC/RF濺射 |
| 工藝氣體 | 1-2路氣體流量控制 |
| 控制方式 | PLC觸摸屏控制 |
| 占地面積 | （主機(jī)）L600×W800×H1700mm |
| 總功率 | ≥6KW |
北京泰科諾科技有限公司自2003年成立以來(lái)，一直專注于真空設(shè)備的研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造，是一家集真空薄膜新材料沉積設(shè)備、真空技術(shù)應(yīng)用設(shè)備等相關(guān)設(shè)備及其工藝的研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、銷售、服務(wù)于一體的*。
公司的研發(fā)中試孵化基地位于毗鄰雄安新區(qū)的任丘經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)，距離未來(lái)的雄安高鐵站約20公里，占地面積20000㎡,不僅建有包括機(jī)加工、電氣、結(jié)構(gòu)組裝，調(diào)試等多個(gè)中試生產(chǎn)車間和辦公樓以及其它輔助廠房；同時(shí)建有研發(fā)工藝、服務(wù)客戶的開(kāi)放實(shí)驗(yàn)室。公司還聘請(qǐng)了國(guó)內(nèi)外真空行業(yè)zi深的專家、教授作為本公司的技術(shù)顧問(wèn)，確保真空設(shè)備產(chǎn)品高水平，始終保持較強(qiáng)的自主研發(fā)能力、*的設(shè)計(jì)概念、領(lǐng)xian的技術(shù)優(yōu)勢(shì)。
