光氧低溫等離子廢氣處理設(shè)備
光氧低溫等離子廢氣處理設(shè)備，產(chǎn)品采用標(biāo)準(zhǔn)型材料制造,或采用全不銹鋼材料制造處理風(fēng)量50T60000m3/h以上是目前處理工業(yè)有機廢氣污染的*設(shè)備。
凈化機理
采用脈沖高壓調(diào)頻等離子體電源和齒板放電裝置,使其產(chǎn)生高強度、高濃度、高電能的活性自由基,在毫秒級的時間內(nèi)瞬間對有害廢氣分子進(jìn)行氧化還原反應(yīng),將廢氣中的大部分污染降解成二氧化碳和水及易處理的物質(zhì)。利用催化氧化劑的強氧化性和高吸附性,持續(xù)地對等離子體未處理盡的污染物和生成的物質(zhì)進(jìn)行催化氧化反應(yīng),使有害氣經(jīng)多級凈化后達(dá)標(biāo)排放標(biāo)準(zhǔn)。新穎的結(jié)構(gòu)設(shè)計將低溫等離子體的發(fā)生裝置和催化氧化裝置有機地結(jié)合在同一凈化設(shè)備內(nèi),有限地發(fā)揮了復(fù)合凈化的效能,使之滿足占地小,重量輕、能耗少、效率高地設(shè)計要求。
功能特點
1.具有一次性凈化效率高,能同時凈化多種污染物
2.防火性能采用開關(guān)、電源、電路三重自動保護(hù)
3.設(shè)備體積小、結(jié)構(gòu)緊湊、工藝成熟
4.設(shè)備投資少、運行成本低
5.安全穩(wěn)定、維護(hù)方便、使用壽命長
6.凈化效率高、無二次污染
1、UV 光催化設(shè)備能高效去除揮發(fā)性有機物、硫化氫、氨氣等無機物類污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率可達(dá) 99%以上，脫臭效果大大優(yōu)于國家頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)(GB14554-93)
2、UV 光催化設(shè)備可適應(yīng)于絕大部分高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理，通過合理的模塊配置可廣泛應(yīng)用于：煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾中轉(zhuǎn)站、污水泵房、等惡臭滅菌凈化處理?？擅刻?24 小時連續(xù)工作，運行穩(wěn)定可靠。
3、UV 光催化設(shè)備無任何機械裝置，無運動噪音，無需專人管理和日常維護(hù)，只需要作定期檢查維護(hù)，維護(hù)和能耗成本低，風(fēng)阻極低，可節(jié)約大量排風(fēng)動力能耗，達(dá)到節(jié)能的目的。
4、UV光催化設(shè)備采用光解原理，采取了隔爆處理，消除了安全隱患、防火、防爆、防腐蝕性能高，設(shè)備性能安全穩(wěn)定，特別適用于高濃度易燃易爆廢氣的場合。
