光催化氧化廢氣凈化設(shè)備，也可用于消毒殺菌。低溫等離子體技術(shù)是一種全新的凈化過程，不需要任何添加劑、不產(chǎn)生廢水、廢渣，不會導(dǎo)致二次污染, 適用場所：① 污水處理廠預(yù)處理、生化處理、污泥處理過程惡臭氣體的凈化和治理。② 垃圾處理過程中的堆放、分揀、堆肥、填埋、焚燒以及垃圾滲濾液污水處理站惡臭氣體的凈化和治理,③ 涂料與噴漆、煉焦、制藥、橡膠塑料、印染皮革、有機(jī)染料及合成材料廠和發(fā)酵制藥、石油化工、制鞋廠、印刷廠、造紙廠、畜牧養(yǎng)殖、飼料加工、糞便處理等惡臭氣體凈化和治理。

 光催化氧化廢氣凈化設(shè)備

 在高壓等離子電場的作用下，電離初始態(tài)氧將其中的廢氣離子進(jìn)行電離荷電凈化，帶電的微小離子(塵埃粒子)被吸附單元所收集并流入和沉積到氣體處理裝置的儲塵箱內(nèi)，氣體內(nèi)的有害氣體被電場內(nèi)所產(chǎn)生的臭氧所殺菌，并去除了異味，有害氣體被除掉,達(dá)到廢氣處理的目的。
  吸附催化凈化處理裝置是一種干式廢氣處理設(shè)備。由箱體和裝填在箱體內(nèi)的吸附單元組成，吸附單元根據(jù)廢氣處理要求添加催化劑達(dá)到進(jìn)一步去處異味氣體的目的?？刂葡到y(tǒng)主要用來控制系統(tǒng)開機(jī)、停運(yùn)，并對系統(tǒng)運(yùn)行效果進(jìn)行檢測，反饋系統(tǒng)的運(yùn)行狀態(tài)和技術(shù)參數(shù)，從而使設(shè)備處于佳運(yùn)行狀態(tài)，實現(xiàn)無人值守。