zeiss 分析型掃描電鏡 EVO 18
zeiss 分析型掃描電鏡 EVO 18
EVO 18 是一款具有處理各種材料能力的分析型顯微鏡，為您提供優(yōu)異的成像品質(zhì)。
標(biāo)配能譜儀和波譜儀（EDS & WDC）接口，另有用于高級形貌與化學(xué)分析的全集成式顆粒分析和識別解決方案可供選擇。通過升級LaB6高亮度光源將與X射線分析相關(guān)的探針電流性能提升至一個(gè)全新的水準(zhǔn)。
EVO 18 掃描電鏡的五象限背散射電子探測器（BSE）有助于增強(qiáng)低電壓性能及提供更豐富的形態(tài)信息。對于非導(dǎo)電樣品，電子束襯管技術(shù)可有效提高分辨率。
EVO 18 Research 是學(xué)術(shù)和研究機(jī)構(gòu)使用的一款分析型掃描電子顯微鏡。EVO 18 Research 為您提供優(yōu)異的成像品質(zhì)，具有處理多種材料的能力。結(jié)合SmartSEM 軟件的易用性，使其成為多種研究應(yīng)用的合適之選，范圍涵蓋半導(dǎo)體和電子技術(shù)、地質(zhì)科學(xué)及材料研究。
產(chǎn)品特點(diǎn)
• 業(yè)內(nèi)*的X射線幾何結(jié)構(gòu)以及標(biāo)配能譜儀和波譜儀（EDS & WDS）
• 五象限背散射電子探測器（BSE）為您提供更豐富的形態(tài)信息
• 可變電壓功能用于分析較少制備的非接觸式樣品
• 可移動(dòng)的顯微鏡樣品臺用于觀察大型樣品
• 配備鎢光源和可供選擇的LaB6 光源
• 優(yōu)質(zhì)的生產(chǎn)工藝，曾榮獲2011年英國電子電氣工廠獎(jiǎng)以及歐特克產(chǎn)品與工藝大獎(jiǎng)
利用BSE探測器在5象限對濾紙的成像
技術(shù)參數(shù)
分辨力 | 3 nm (2 nm) @ 30 kV SE and W (LaB6) |
4 nm @ 30 kV VP mode | |
20 nm (9 nm) @ 1 kV SE and W (LaB6) | |
電壓 | 0.2 -30 kV |
探針電流 | 0.5 pA to 5 μA |
放大倍率 | < 5 - 1,000,000x |
視野 | 分析工作距離（AWD）為6 mm |
X射線幾何 | 8.5 mm AWD和35°起飛角 |
OptiBeam模式 | 分辨率，深度，分析，魚眼領(lǐng)域 |
壓力范圍 | 10 – 400 Pa |
可用的探測器 | ETSE - Everhart-Thornley二次電子探測器（標(biāo)配） |
BSD - 五段二極管背向散射電子探測器（標(biāo)配） | |
VPSE - 可變壓力二次電子探測器 | |
SCD - 試樣電流檢測器 | |
EDS - 能量色散譜儀 | |
WDS - 波長色散光譜儀 | |
CL - 陰極發(fā)光檢測器 | |
STEM - 掃描透射電子顯微鏡檢測器 | |
工作室尺寸 | 365毫米（Ø）x 275毫米（高） |
5軸電動(dòng)試樣臺 | X = 125 mm，Y = 125 mm Z = 50 mm電動(dòng)（樣品高度延伸至145 mm，在Z軸，傾斜和旋轉(zhuǎn)模塊已移除的情況下） T = -10 to 90°，R = 360°（連續(xù)） 通過鼠標(biāo)，操縱桿或控制面板控制工作臺 |
未來的可升級路徑選項(xiàng) | BeamSleeve |
圖像幀庫 | 分辨率：掃描速度為2或更高時(shí)，可達(dá)32k x 24k |
通過積分平均法來獲取信號 | |
圖像顯示 | 高清晰屏幕 |
具有雙通道顯示功能 | |
系統(tǒng)操作 | SmartSEM ** GUI由鼠標(biāo)和鍵盤操作 |
多語言Windows®操作系統(tǒng) | |
實(shí)用需求 | 100 - 230 V，50或60 Hz單相 |
無需水冷 | |
操縱桿、鍵盤、美國控制面板和鼠標(biāo) |
注：*OptiBeam - 有源色譜柱控制，可實(shí)現(xiàn)分辨率，大視野或景深
* SmartSEM - 第六代SEM控制圖形用戶界面
