Sigma 系列zeiss場發(fā)射電子顯微鏡  掃描電鏡

  zeiss場發(fā)射電子顯微鏡  掃描電鏡

Sigma 系列產(chǎn)品用于高品質(zhì)成像與高級分析的場發(fā)射掃描電子顯微鏡.

靈活的探測，4步工作流程，高級的分析性能

將高級的分析性能與場發(fā)射掃描技術相結合，利用成熟的 Gemini 電子光學元件。多種探測器可選：用于顆粒、表面或者納米結構成像。Sigma 半自動的4步工作流程節(jié)省大量的時間：設置成像與分析步驟，提高效率。

Sigma 300 性價比高。Sigma 500 裝配有的背散射幾何探測器，可快速方便地實現(xiàn)基礎分析。任何時間，任何樣品均可獲得可重復的分析結果。

產(chǎn)品特點

用于清晰成像的靈活探測

• 利用*探測術為您的需求定制 Sigma，表征所有樣品。
• 利用 in-lens 雙探測器獲取形貌和成份信息。
• 利用新一代的二次探測器，獲取高達50%的信號圖像。在可變壓力模式下利用 Sigma 創(chuàng)新的 C2D 和 可變壓力探測器，在低真空環(huán)境下獲取高達85%對比度的銳利的圖像。

自動化加速工作流程

• 4步工作流程讓您控制 Sigma 的所有功能。在多用戶環(huán)境中，從快速成像和節(jié)省培訓首先，先對樣品進行導航，然后設置成像條件。
• 首先，先對樣品進行導航，然后設置成像條件。
• 接下來對樣品感興趣的區(qū)域進行優(yōu)化并自動采集圖像。使用工作流程的一步，將結果可視化。

高級分析型顯微鏡

• 將掃描電子顯微鏡與基本分析相結合：Sigma 的背散射幾何探測器大大提升了分析性能，特別是對電子束敏感的樣品。
• 在一半的檢測束流和兩倍的速度條件下獲取分析數(shù)據(jù)。
• 獲益于8.5 mm 短的分析工作距離和35°夾角，獲取完整且無陰影的分析結果。

基于成熟的 Gemini 技術

• Gemini 鏡頭的設計結合考慮了電場與磁場對光學性能的影響，并將場對樣品的影響降至更低。這使得即使對磁性樣品成像也能獲得出色的效果。
• Gemini in-lens 的探測確保了信號探測的效率，通過二次檢測(SE)和背散射(BSE)元件同時減少成像時間。
• Gemini 電子束加速器技術確保了小的探測器尺寸和高的信噪比。

用于清晰成像的靈活探測

• 利用新的探測技術表征所有的樣品。
• 在高真空模式下利用創(chuàng)新的 ETSE 和 in-lens 探測器獲取形貌和高分辨率的信息。
• 在可變壓力模式下利用可變壓力二次電子和 C2D 探測器獲取銳利的圖像。
• 利用 aSTEM 探測器生成高分率透射圖像。
• 利用 BSD4 或者 YAG 探測器進行成份分析。

Sigma 300 可提供

集成式 EDS 解決方案:在低能量分析應用中同時實現(xiàn)高清晰度成像

Sigma Element 是一種集成式 EDS 解決方案，擁有高可用性和低電壓靈敏度。僅需使用一臺計算機來控制 EDS 和 SEM，進而大大提升了該集成化解決方案的易用性。同時，借助專門為顯微鏡和 EDS 操作設計的用戶界面可實現(xiàn)并行控制。
• 集成化：通過集成化，結合高清晰成像與快速分析，從而獲得不錯結果
• 定制化：根據(jù)不同的用戶需求定制軟件
• 靈敏度：*的氮化硅窗口增強低能X射線的探測靈敏度

拉曼成像與掃描電鏡聯(lián)用系統(tǒng):*集成化的拉曼成像

獲取樣品中化學結構的指紋信息：聚焦拉曼光譜成像可擴展您的蔡司Sigma 300 掃描電鏡性能。 分析獲得樣品分子結構和結晶信息。 通過拉曼成像與EDS數(shù)據(jù)可進行3D 分析并與SEM圖像關聯(lián)。*集成化的拉曼成像掃描電鏡聯(lián)用系統(tǒng)使你充分發(fā)揮SEM和拉曼系統(tǒng)的功能。

技術參數(shù)