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真空等離子體涂覆（鍍膜）設(shè)備

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公司名稱武漢賽斯特精密儀器有限公司
品牌其他品牌
型號(hào)
所在地武漢市
廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間2021/3/23 14:33:30
訪問次數(shù)360

產(chǎn)品標(biāo)簽:

真空涂覆（鍍膜）設(shè)備等離子體涂覆設(shè)備 Pluto-MC 真空等離子等離子體鍍膜設(shè)備

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武漢賽斯特精密儀器有限公司是武漢市專業(yè)研發(fā)，以力學(xué)試驗(yàn)機(jī)儀器為主，同時(shí)銷售各種、中低端分析儀器?，F(xiàn)有員工60多人，公司成功開發(fā)了PCI放大采集卡和中文版試驗(yàn)軟件，并采用全數(shù)字化，操作簡捷，*符合GB、ISO、JIS、ASTM、DIN等標(biāo)準(zhǔn)、國家標(biāo)準(zhǔn)、行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的要求，公司亦通過了ISO9001質(zhì)量體系認(rèn)證和國家計(jì)量體系認(rèn)證，榮獲了“武漢市第九界消費(fèi)者滿意單位”的稱號(hào)。

產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于電子、高校、研究機(jī)構(gòu)、環(huán)保機(jī)構(gòu)、航天、石油化工、紡織制造、第三方檢測機(jī)構(gòu)、研究院、新能源、集成電路、芯片、封裝測試、半導(dǎo)體行業(yè)、顯示器領(lǐng)域、光電材料、鋰電池、機(jī)械生產(chǎn)等領(lǐng)域。并與武漢理工大學(xué)、華中科技大學(xué)等建立了長期合作，每年投入大量研究經(jīng)費(fèi)，招攬各方技術(shù)人才加盟突破國內(nèi)技術(shù)壁壘，不斷攻克新的技術(shù)難題，另外公司還積極拓展海外業(yè)務(wù)，產(chǎn)品遠(yuǎn)銷越南，印度，埃及等國家和地區(qū)。

本著“專業(yè)品質(zhì)，專業(yè)服務(wù)”為宗旨，以“科技、品質(zhì)、競爭、創(chuàng)新”為理念，通過不斷汲取新的技術(shù)，新的理念，繼續(xù)開發(fā)研制新產(chǎn)品，并為廣大客戶提供優(yōu)質(zhì)的售前，售中，售后服務(wù)。熱烈歡迎廣大新老朋友業(yè)函，來電，蒞臨我公司參觀指導(dǎo)！

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產(chǎn)品簡介在線詢價(jià)

Pluto-MC 真空等離子體涂覆（鍍膜）設(shè)備利用等離子體改性時(shí)，將試樣置于特定的離子處理裝置中，通過高能態(tài)的等離子轟擊試樣的表面，流量控制裝置對(duì)反應(yīng)物進(jìn)行流量控制，使氣氛按需要的氣量喂入到反應(yīng)腔內(nèi)

真空等離子體涂覆（鍍膜）設(shè)備產(chǎn)品信息

Pluto-MC 真空等離子體涂覆（鍍膜）設(shè)備

產(chǎn)品簡介：

Pluto-MC利用等離子體改性時(shí)，將試樣置于特定的離子處理裝置中，通過高能態(tài)的等離子轟擊試樣的表面，將能量傳遞給試樣表層的分子，使試樣發(fā)生熱蝕、交聯(lián)、降解和氧化反應(yīng)，并使試樣表面發(fā)生C-F鍵和C-C鍵的斷裂，產(chǎn)生大量自由基或引進(jìn)某些極性基團(tuán)，從而優(yōu)化試樣表面的性能。

Pluto-MC 真空等離子體涂覆（鍍膜）設(shè)備

產(chǎn)品特點(diǎn)：

等離子體對(duì)其改性的主要途徑是引發(fā)表面接枝，具體方法是用非聚合氣體(如Ar,H2,O2,N2和空氣等)對(duì)樣品表面進(jìn)行等離子體處理，使其表而形成活性自由基，之后利用活性自由基引發(fā)功能性單體，使其在表面進(jìn)行接枝聚合

利用沉淀反應(yīng)進(jìn)行表面改性,這是工業(yè)上目前應(yīng)用多的方法。

產(chǎn)品特點(diǎn)：

1. 在現(xiàn)有設(shè)備基礎(chǔ)上，增加涂覆組件，可升級(jí)配置

2. 高精度控制，多參數(shù)設(shè)置，可控性佳

3. 已經(jīng)有成熟的應(yīng)用，可提供疏水涂覆材料

4. 都有電極間距可調(diào)設(shè)計(jì)，反應(yīng)程度可控，有效控制涂覆效率

5. 可根據(jù)客戶需求，定制和設(shè)計(jì)工藝

系統(tǒng)組件設(shè)有儲(chǔ)料腔、加熱裝置、保溫裝置和流量控制裝置。
儲(chǔ)料腔設(shè)計(jì)為可拆結(jié)構(gòu)，便于清洗和更換不同的原料；
加熱裝置可氣化反應(yīng)物質(zhì)，并保持一定溫度；

流量控制裝置對(duì)反應(yīng)物進(jìn)行流量控制，使氣氛按需要的氣量喂入到反應(yīng)腔內(nèi)