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磁控濺射鍍膜系統(tǒng)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱武漢賽斯特精密儀器有限公司
  • 品       牌其他品牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地武漢市
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間2021/4/2 12:35:16
  • 訪問(wèn)次數(shù)1837
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     武漢賽斯特精密儀器有限公司是武漢市專業(yè)研發(fā),以力學(xué)試驗(yàn)機(jī)儀器為主,同時(shí)銷售各種、中低端分析儀器?,F(xiàn)有員工60多人,公司成功開(kāi)發(fā)了PCI放大采集卡和中文版試驗(yàn)軟件,并采用全數(shù)字化,操作簡(jiǎn)捷,*符合GB、ISO、JIS、ASTM、DIN等標(biāo)準(zhǔn)、國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)、行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的要求,公司亦通過(guò)了ISO9001質(zhì)量體系認(rèn)證和國(guó)家計(jì)量體系認(rèn)證,榮獲了“武漢市第九界消費(fèi)者滿意單位”的稱號(hào)。
 
    產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于電子、高校、研究機(jī)構(gòu)、環(huán)保機(jī)構(gòu)、航天、石油化工、紡織制造、第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu)、研究院、新能源、集成電路、芯片、封裝測(cè)試、半導(dǎo)體行業(yè)、顯示器領(lǐng)域、光電材料、鋰電池、機(jī)械生產(chǎn)等領(lǐng)域。并與武漢理工大學(xué)、華中科技大學(xué)等建立了長(zhǎng)期合作,每年投入大量研究經(jīng)費(fèi),招攬各方技術(shù)人才加盟突破國(guó)內(nèi)技術(shù)壁壘,不斷攻克新的技術(shù)難題,另外公司還積極拓展海外業(yè)務(wù),產(chǎn)品遠(yuǎn)銷越南,印度,埃及等國(guó)家和地區(qū)。
 
    本著“專業(yè)品質(zhì),專業(yè)服務(wù)”為宗旨,以“科技、品質(zhì)、競(jìng)爭(zhēng)、創(chuàng)新”為理念,通過(guò)不斷汲取新的技術(shù),新的理念,繼續(xù)開(kāi)發(fā)研制新產(chǎn)品,并為廣大客戶提供優(yōu)質(zhì)的售前,售中,售后服務(wù)。熱烈歡迎廣大新老朋友業(yè)函,來(lái)電,蒞臨我公司參觀指導(dǎo)!
檢測(cè)儀器全套,測(cè)試設(shè)備全套等
磁控濺射鍍膜系統(tǒng)特點(diǎn):

1、支持向上或向下的鍍膜方式;

2、*的濺射靶材結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),實(shí)現(xiàn)膜厚分部的穩(wěn)定可靠;

3、高速旋轉(zhuǎn)的傘具與實(shí)際鍍膜工件的監(jiān)控位置,實(shí)現(xiàn)了所見(jiàn)即所得;
磁控濺射鍍膜系統(tǒng) 產(chǎn)品信息

磁控濺射鍍膜系統(tǒng)

公司生產(chǎn)的各型鍍膜機(jī),是針對(duì)特定市場(chǎng)和客戶群體開(kāi)發(fā)的新產(chǎn)品,與目前市場(chǎng)上普遍采用的鍍膜設(shè)備相比具備以下突出優(yōu)勢(shì):?jiǎn)误w同步精密監(jiān)控,實(shí)時(shí)膜厚分布控制。因此適合做各類高難度鍍膜產(chǎn)品。單片薄膜產(chǎn)品的面積越大,優(yōu)勢(shì)越明顯。而電子束鍍膜機(jī)還增加了雙面鍍膜功能,適合半導(dǎo)體激光器的端面鍍膜。

特點(diǎn):

1、支持向上或向下的鍍膜方式;

2、*的濺射靶材結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),實(shí)現(xiàn)膜厚分部的穩(wěn)定可靠;

3、高速旋轉(zhuǎn)的傘具與實(shí)際鍍膜工件的監(jiān)控位置,實(shí)現(xiàn)了所見(jiàn)即所得;

4、多通道透射式監(jiān)控,配合可調(diào)節(jié)膜厚修正板,實(shí)現(xiàn)了膜厚分布的反饋控制;

5、支持任意膜厚的控制;

6、通用的控制平臺(tái),友好的人機(jī)界面,使客戶可以自行設(shè)置鍍膜機(jī)的所有控制參數(shù);

7、開(kāi)放式接口,方便安裝第三方的光學(xué)膜厚儀;

8、氣流和氣壓同時(shí)實(shí)時(shí)控制,適用出氣量大的低溫鍍膜。

磁控濺射鍍膜系統(tǒng)

工藝參數(shù):

1、真空系統(tǒng)

     a) 極限真空度:4.0×10-5Pa 

     b) 抽至10Pa所用時(shí)間:≦ 10 分鐘

     c) 漏率: 3.0×10-5Pa m3/sec

2、控制精度

     a) 靶材尺寸:8寸直徑

     b) 工件旋速: 20-120RPM

     c) 工件尺寸:直徑900mm

     d) 離子源:等離子體離子源

     e) 加熱溫度:上下雙加熱控制,Z高溫度350度

     f)高真空泵:DN400油擴(kuò)散泵或電子泵

     g)低真空泵組:機(jī)械泵+羅茨泵機(jī)組

     h)冷阱:雙組Polycold

3、光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)OMS

     a) 波長(zhǎng)精度:0.2nm

     b) 光強(qiáng)波動(dòng): 白光< 0.1%,激光< 0.02%

     c) 波長(zhǎng)范圍: 400nm-1650nm

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