一、反滲透設(shè)備使用的是微電腦+觸摸屏控制技術(shù)，搭配高效的自動(dòng)化控制系統(tǒng)，有效的保障了設(shè)備的穩(wěn)定性，而且大大程度的節(jié)約了人力成本和維護(hù)成本，水資源的利用率得到了有效的提高，設(shè)備運(yùn)行過(guò)程的可靠性高，操作簡(jiǎn)單易懂。這款設(shè)備相較于其它同類(lèi)型產(chǎn)品，具有更高的性?xún)r(jià)比，是值得選擇的超純水設(shè)備。
二、常用典型工藝流程如下：
預(yù)處理系統(tǒng)-反滲透系統(tǒng)-粗混床-精混床-紫外線殺菌器-拋光混床-精密過(guò)濾器-用水對(duì)象(≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
預(yù)處理-反滲透-EDI裝置-紫外線殺菌器-拋光混床-精密過(guò)濾器-用水對(duì)象(≥18MΩ.CM)(新工藝)
預(yù)處理-一級(jí)反滲透-二級(jí)反滲透-EDI裝置-紫外線殺菌器-精密過(guò)濾器-用水對(duì)象(≥15MΩ.CM) (新工藝)
預(yù)處理-反滲透-EDI裝置-紫外線殺菌器-精密過(guò)濾器-用水對(duì)象(≥15MΩ.CM)(新工藝)
預(yù)處理系統(tǒng)-反滲透系統(tǒng)-粗混合床-精混合床-紫外線殺菌器-精密過(guò)濾器-用水對(duì)象 (≥
15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
預(yù)處理系統(tǒng)-反滲透系統(tǒng)-粗混合床-精密過(guò)濾器-用水對(duì)象 (≥5MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
三、反滲透系統(tǒng)-產(chǎn)水電阻率低，怎么辦呢？
EDI采用模塊化技術(shù)，通過(guò)不同數(shù)量的模塊搭配，可以適應(yīng)各種水處理要求，其為發(fā)電、半導(dǎo)體、微電子、化工以及制藥行業(yè)的高純水生產(chǎn)提供有力保障。EDI利用傳統(tǒng)的離子交換樹(shù)脂將水中的污染離子去除，其優(yōu)點(diǎn)在于：EDI技術(shù)采用直流電迫使污染離子持續(xù)的從進(jìn)水中遷移出來(lái)，并穿過(guò)離子床和離子交換膜進(jìn)入濃水室，同時(shí)直流電能夠?qū)⑺肿与婋x成氫離子和氫氧根離子，持續(xù)的對(duì)樹(shù)脂進(jìn)行再生，因此可以連續(xù)、可預(yù)知的生產(chǎn)高純水。
EDI與混床相比較，其具有：工藝*、無(wú)需化學(xué)品再生、不生產(chǎn)酸堿廢水、運(yùn)行成本低、操作簡(jiǎn)單、占地空間小等優(yōu)點(diǎn)。
我司針對(duì)醫(yī)藥/生物制藥/電子半導(dǎo)體/光學(xué)光電等行業(yè)設(shè)計(jì)的純化水設(shè)備、超純水設(shè)備均有EDI工藝的高度融合，在長(zhǎng)期實(shí)踐中總結(jié)了EDI在運(yùn)行中存在的故障問(wèn)題及解決指南。
一．可能原因
1、電源：
1）點(diǎn)沒(méi)電
2）電壓設(shè)定過(guò)高或過(guò)低
3）一個(gè)或多個(gè)電極接頭松動(dòng)
4）電極的極性接反
水流量
1）流過(guò)模塊的水流量低于最小值
2）流過(guò)模塊的水流量高于值
進(jìn)水：不符合進(jìn)水規(guī)范要求
模塊：堵塞或結(jié)垢
模塊扭矩：扭矩過(guò)小
二、正確解決辦法
1）打開(kāi)電源
2）查電極電壓
3）確保電極連接正常
4）確保電極極性正確
重新調(diào)節(jié)濃水、極水和進(jìn)水壓力
檢查RO產(chǎn)水品質(zhì)，尤其是TDS、CO2等
清洗模塊
重新調(diào)整扭矩
