應(yīng)用

Neocera公司的使命是為研究新型*薄膜材料和器件的科學(xué)家和工程師提供服務(wù)。我們通過以下手段來實(shí)現(xiàn)此目標(biāo)：

l 發(fā)展在材料科學(xué)和器件工程方面的基礎(chǔ)競爭力

l 在薄膜制造方面，提供的脈沖電子束鍍膜（PED）和脈沖激光鍍膜（PLD）設(shè)備

l 提供的技術(shù)支持

l 參與共同的研究與開發(fā)

Neocera公司是一家PED 和PLD設(shè)備的增值供應(yīng)商。在PED 和PLD科學(xué)和技術(shù)的前沿方面，我們提供的解決方案；我們的設(shè)備和實(shí)際經(jīng)驗(yàn)將幫助解決你們的問題。

另外，Neocera公司參與政府部門和工業(yè)客戶的前沿的研究與開發(fā)；作為材料科學(xué)家，我們了解你們的需要。

技術(shù)指標(biāo)

一、 PED-120系統(tǒng)的技術(shù)指標(biāo)

l PEBS-20脈沖電子源和電源

l 真空腔：直徑12"

Ø 額定基壓：<1x10^-6 Torr

l 基片加熱器，直徑2"，帶控溫器

Ø 氧氣可達(dá)大氣壓力

Ø 溫度：950 °C

Ø 溫度均勻性：±5 °C

Ø 溫度穩(wěn)定性：±1 °C

Ø 基片加熱器檔板

l 靶盒，手動(dòng)控制

Ø 可放置6個(gè)1"的靶或3個(gè)2"的靶

Ø 靶與法蘭的距離：4"

l 氣路

Ø 質(zhì)量流量計(jì)控制進(jìn)入真空腔的流量，量程100sccm

Ø 控制采用單通道設(shè)置/數(shù)值顯示

l 真空泵系統(tǒng)

Ø 260 l/s 帶冷阱的渦輪分子泵，高真空泵

Ø 4 m³/hr無油機(jī)械泵

Ø 8"閘板閥，手動(dòng)控制

Ø 排氣/出氣閥，用于氧氣的安全操作

l 真空計(jì)，顯示讀數(shù)

Ø 冷陰極型

Ø 對流型

l 系統(tǒng)框架

Ø 占地面積：22”W x 34”D

Ø 空間： 30”W x 34”D

Ø 總高度： 54"-58"

Ø 標(biāo)準(zhǔn)19"電子元件安裝架

Ø 腳輪和水平調(diào)節(jié)器

l 電源

Ø 110-240 VAC/50 Hz, 20 A，單相

二、PEBS-20脈沖電子源系統(tǒng)的技術(shù)指標(biāo)

組成：

l PEBS-20脈沖電子源

l 電源

l 電子控制系統(tǒng)

l 預(yù)裝軟件的控制計(jì)算機(jī)

技術(shù)指標(biāo)：

電壓：115-230 VAC, 50/60 Hz, 單相

氧氣壓力：5-20 mTorr

電子能量：8-20 kV

單次脈沖能量：0.1 – 0.8 J

脈沖能量偏差（Max）：±10%

能量轉(zhuǎn)換效率：25-30%

脈沖持續(xù)時(shí)間：~100 ns

脈沖重復(fù)速率（Max）：15 Hz

電子束斑面積（Min）：6 x 10^-2 cm²

電子束斑面積偏差（Max）：±20%

脈沖能量密度（Max）：1.3 x 10⁸ W/ cm²

Z軸移動(dòng)距離：50 mm

XY軸移動(dòng)距離：±20 mm

工作壽命：10⁷ 次脈沖

PEBS源的工作溫度（Max）：85 °C

特點(diǎn)

脈沖電子束沉積（PED）的特點(diǎn)

與CW技術(shù)相比，例如傳統(tǒng)的電子束蒸發(fā)，脈沖系統(tǒng)的主要特點(diǎn)是可以在靶材表面上

產(chǎn)生達(dá)10⁸W/cm²的高能量密度。因此，靶材的熱動(dòng)力學(xué)特性比如熔點(diǎn)和比熱等

在蒸發(fā)過程中就變得不重要了。這一點(diǎn)對復(fù)雜的、多組分材料特別具有優(yōu)勢。與脈

沖激光沉積（PLD）相比，脈沖電子束沉積（PED）技術(shù)提供了的平臺(tái)，在

一系列具有重要技術(shù)價(jià)值的基片上沉積復(fù)雜材料的薄膜，其*的優(yōu)點(diǎn)在于擴(kuò)展了

材料的范圍和應(yīng)用。這種方法在大批量生產(chǎn)中可以大規(guī)模應(yīng)用且成本低廉。