主要特點(diǎn):
ARL Quant’X 熒光能譜儀
具有廣泛的應(yīng)用如:ROHS-WEEE電子廢棄物中重元素分析,各種合金及貴金屬成分分析,環(huán)境污染氣溶膠的測度, 考古文物保護(hù),刑偵痕量分析,營養(yǎng)品分析,磁性介質(zhì)和半導(dǎo)體的薄膜渡層厚度分析,各種油品中成分分析,納米至微米鍍層厚度測量,土壤,催化劑,礦石,原材料等.
用于材料的無損分析可選擇液氮致冷或電致冷Si(Li) 探測器 從氟至鈾的多元素分析測定的濃度范圍一般可以從ppm級至99% 技術(shù)參數(shù)
技術(shù)參數(shù):
ARL Quant’X 熒光能譜儀
應(yīng)對RoHS指令 ――快速分析
超大Si(Li) 晶體,具有*的痕量分析的靈敏度,打破lng的檢測限壁壘
全數(shù)字脈沖處理器技術(shù),死時(shí)間達(dá)60%, 以及優(yōu)異的峰背比
高級FP無標(biāo)樣分析軟件,進(jìn)行無標(biāo)樣分析,減少對標(biāo)樣的依賴性
高靈敏電制冷Si(Li) 探測器技術(shù), 儀器免維護(hù)和*運(yùn)行
超大樣品室,可容納300mm*(乘號)400mm的樣品
全自動(dòng)校準(zhǔn),自動(dòng)監(jiān)測,自動(dòng)報(bào)警系統(tǒng),*計(jì)算機(jī)控制
鍍層和薄膜測量技術(shù), 具有無標(biāo)樣分析測厚技術(shù)