主要應(yīng)用領(lǐng)域:
1. 研究電化學(xué)機(jī)理
2. 生物技術(shù)
3. 物質(zhì)的定性定量分析
4. 常規(guī)電化學(xué)測(cè)試
5. 納米科學(xué)研究
6. 傳感器研究
7. 金屬腐蝕研究
8. 電池研究
9. 電鍍研究
主要技術(shù)指標(biāo):
恒電位儀
恒電流儀
槽壓:±15V
靈敏度1×10-14A
電位控制范圍:±12.8V
電流控制范圍±250mA
電位上升時(shí)間﹤0.25微秒
輸入阻抗:>1013W//<10pF
脈沖電流:±250mA
設(shè)置脈沖電流數(shù):8個(gè)
D/A轉(zhuǎn)換速率18bit
A/D轉(zhuǎn)換速率24bit
電流測(cè)量分辨率﹤0.01pA
量程:5nA-250mA 9檔
電位更新速率:5MHz
CV的最小電位增量:0.1mV
CV 和LSV掃描速度0.1~10000mV/s
電位掃描時(shí)電位增量:0.1mV@200mV/mS
DPV和NPV脈沖寬度2~5000ms
SWV頻率1~100KHz
自動(dòng)和手動(dòng)電流、電位零位調(diào)整
環(huán)境溫度:5—400C
運(yùn)行時(shí)間:0--100,000s
通訊接口:RS232與USB互換
儀器尺寸:36*30*13
電位和電流測(cè)量低通濾波器,自動(dòng)和手動(dòng)設(shè)置
主要測(cè)量技術(shù):
線性掃描伏安法 (LSV)
恒電位電解電流-時(shí)間曲線(I-T)
循環(huán)伏安法 (CV)
恒電位電解電量-時(shí)間曲線(Q-T)
線性掃描溶出伏安法 (LSV)
恒電位溶出電流-時(shí)間曲線(I-T)
階梯伏安法 (SCV)
恒電位溶出電量-時(shí)間曲線(Q-T)
階梯循環(huán)伏安法 (SCV)
單電位階躍計(jì)時(shí)電流法(I-T)
階梯溶出伏安法 (SCV)
多電位階躍計(jì)時(shí)電流法(I-T)
方波伏安法 (SWV)
單電位階躍計(jì)時(shí)電量法(Q-T)
方波循環(huán)伏安法 (SWV)
多電位階躍計(jì)時(shí)電量法(Q-T)
方波溶出伏安法 (SWV)
電位溶出E-T曲線
常規(guī)脈沖伏安法 (NPV)
開(kāi)路電勢(shì)E-T曲線
差示脈沖伏安法 (DPV)
單電流階躍計(jì)時(shí)電位法
差示脈沖溶出伏安法 (DPV)
多電流階躍計(jì)時(shí)電位法
差示常規(guī)脈沖伏安法 (DNPV)
控制電流E-T曲線
塔菲爾圖 (TAFEL)