斯派克ARCOS型全譜直讀等離子體發(fā)射光譜儀 - 產(chǎn)品詳情
斯派克ARCOS型全譜直讀等離子體發(fā)射光譜儀簡介
具采用的密封充氣紫外光學(xué)系統(tǒng)和OPI水平觀測等離子光學(xué)接口完成消除水平觀測時尾焰的影響、全譜CCD技術(shù)和多視角等離子體定位等新技術(shù)，有高靈敏度、高精度以及波長范圍寬（130nm-770nm) 等特性，在ICP-OES 領(lǐng)域開拓了全新的應(yīng)用，可分析包括ppm級鹵素在內(nèi)的73個金屬和非金屬元素。
斯派克ARCOS型全譜直讀等離子體發(fā)射光譜儀主要特點
1.一維色散＋32個CCD檢測器設(shè)計，檢測器無需超低溫冷卻，無需氬氣吹掃保護
2.全波長覆蓋，為130－770nm的波長范圍，可以分析ppm級鹵素3.密閉充氬循環(huán)光路系統(tǒng)，檢測190nm以下譜線，無需氣體吹掃
4.3秒實現(xiàn)真正全譜數(shù)據(jù)采集，分析速度
5.所有氣體流量采用質(zhì)量流量計計算機控制，矩管位置3維步進馬達計算機控制自動化程度高
斯派克ARCOS型全譜直讀等離子體發(fā)射光譜儀技術(shù)參數(shù)：
光學(xué)系統(tǒng)
焦距：0.75米
光譜范圍：130nm – 770nm
光柵：三光柵
- 3600線/毫米 (130nm – 175nm)
- 3600線/毫米 (175nm – 340nm)
- 1800線/毫米 (340nm – 770nm)
光譜級次：全波長一級光譜
32個線性CCD連續(xù) 排列在羅蘭圓上
每個CCD的像素數(shù)：3648
分辨率：8.5pm （恒定不變）
光室密閉充氬，無需吹掃（驅(qū)氣）和抽真空
光室恒溫: 15℃ （ 0.1 ℃）
- 開機即可使用
- 測量130nm – 190nm波段方便快捷
信號檢測與讀出系統(tǒng)
32個線性陣列CCD
工作溫度：15 ℃ （ 0.1 ℃），無須制冷，
無須吹掃保護性氣流
超高速數(shù)據(jù)讀?。弘pCPU，平行數(shù)據(jù)讀出
*的動態(tài)范圍：108
最短積分時間：0.1ms
可進行瞬時信號的測量：與LC、HPLC等聯(lián)機成為真正可能
決無“溢出”現(xiàn)象
長壽命
等 離 子 體
自激式固態(tài)發(fā)生器和電源
頻率：27.12MHz
功率：750 - 1700W
功率穩(wěn)定性：<0.1%
風(fēng)冷
全自動控制，功率連續(xù)可調(diào)
耦合效率高
等離子體觀測方式
1、等離子體水平放置，軸向觀測
可有效提高儀器的靈敏度10倍，尤其對于激發(fā)電位較低的元素，如：Zn、K、Na
的OPI技術(shù)
冷錐冷卻方式：水冷，冷卻效率高
計算機全自動控制冷錐與等離子體
的相對位置
氬氣反吹，在保證遠紫外波段的光
效率前提下，冷錐和光路（包括透
鏡）無污染的可能
2、等離子體垂直放置，徑向觀測
等離子體垂直放置優(yōu)點：
不會燒炬管
減少基體干擾
減少進樣系統(tǒng)沖洗時間
實驗成本降低
分析速度快
缺點：
對于激發(fā)電位較低的元素，如：Zn、K、Na
等靈敏度不夠
針對不同用戶的使用習(xí)慣和測試需求，可提供
SPECTRO ARCOS SOP（垂直炬管）
SPECTRO ARCOS EOP（水平炬管）
進樣系統(tǒng)
四通道蠕動泵
泵速：0 ~70 RPM
連續(xù)可調(diào)
實時在線內(nèi)標(biāo)加入
在線稀釋
耐強酸、堿等腐蝕性液體
隨機附帶大容量、自動報
警的廢液回收器
軟 件
多語言（包含中文）視窗化操作軟件及手冊
一鍵導(dǎo)航式操作流程，清晰、簡便，易學(xué)、易用
全譜譜圖自動存儲，記錄樣品“指紋”，可進行“追憶”分析，無須保留樣品和費時、
費力的再次測量
實時內(nèi)標(biāo)測量
定性、半定量全譜測試，可鑒別未知樣品，進行“盲樣”分析
可對譜圖進行疊加、差減，精確消除溶劑、器皿等所引入的空白與污染誤差
內(nèi)置NIST標(biāo)準譜庫，可自動進行譜線干擾識別和校正
智能邏輯校正（ ICAL）系統(tǒng)，可持續(xù)監(jiān)控儀器的工作狀況并自動校準，
確保儀器在狀態(tài)下運行
的智能背景校準（Smart Background Correction)，扣除真實背景，消除誤
差，分析結(jié)果準確
扣除背景的方式靈活多樣
同時、實時扣除背景
單點或雙點
背景曲線擬合
的智能背景扣除（Smart Background Correction)
背景扣除真實可靠、簡單實用
可在分析完成后更改背景扣除點或背景扣除方式，無須重新分析樣品，減
輕操作人員的工作量
