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全自動濺射儀

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱上海禾早電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2022/1/12 11:54:35
  • 訪問次數(shù)193
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上海禾早電子科技有限公司作為國內(nèi)專業(yè)的科研儀器械服務(wù)商之一。通過多年在材料領(lǐng)域的實踐與應(yīng)用,我們在離子濺射儀,磁控離子濺射儀,高真空離子濺射儀,主動減震臺,桌面主動減震臺,電子束感應(yīng)電流,納米力學(xué)性能,電鏡維修保養(yǎng)等領(lǐng)域為國內(nèi)外企業(yè)在產(chǎn)品開發(fā)上積累豐富的實踐經(jīng)驗。 自成立以來,公司引進進的營銷服務(wù)理念并切合中國市場實際,在不斷推動行業(yè)發(fā)展、技術(shù)創(chuàng)新的同時,禾早科技與各行業(yè)客戶建立了良好的合作伙伴關(guān)系,分別在高校、科研院所以及航天航空、冶金、機械、化工、電子、石油、地礦、新能源、新材料等多個領(lǐng)域深耕細作, 正在為數(shù)以萬計的國內(nèi)外用戶提供高品質(zhì)的產(chǎn)品與國際技術(shù)服務(wù),致力于為客戶提供有競爭力的應(yīng)用解決方案,推動中國質(zhì)量控制與科研水平的發(fā)展與提升! 禾早科技“感恩、拼搏、高效、創(chuàng)新”的企業(yè)文化和科學(xué)的規(guī)范管理,凝聚了大量的優(yōu)秀人才。公司擁有專業(yè)的市場、營銷、研發(fā)和技術(shù)服務(wù)團隊,為禾早科技的高速發(fā)展增添了不竭動力。如今的禾早科技從商海大浪中走來,意氣風(fēng)發(fā),;在未來,禾早科技將一如既往致力于材料分析技術(shù)的創(chuàng)新與發(fā)展,與國內(nèi)外客戶共同開創(chuàng)世界科技發(fā)展的未來。
離子濺射儀
MicroHezaoGVC系列全自動濺射儀,該系列產(chǎn)品擁有優(yōu)秀的濺射系統(tǒng),可以更換不同的金屬靶材(金,鉑,銀,銥,鉻,銅等),實現(xiàn)高要求的細粒涂層
全自動濺射儀 產(chǎn)品信息

MicroHezao GVC系列全自動濺射儀,該系列產(chǎn)品擁有優(yōu)秀的濺射系統(tǒng),可以更換不同的金屬靶材(金,鉑,銀,銥,鉻,銅等),實現(xiàn)高要求的細粒涂層。GVC系列為您提供優(yōu)質(zhì)的樣品制備,輕松助您取得更好地材料研究樣品, 獲得高質(zhì)量的顯微鏡觀結(jié)果。MicroHezao電鏡制樣技術(shù)團隊,為您提供全套解決方案。


發(fā)現(xiàn)其特點

○一鍵式鍍膜   ○更小的桌面占用面積    ○直觀的操作界面     ○全自動化控制

○應(yīng)用范圍更廣泛   ○鍍膜更換         ○結(jié)果        ○使用更簡便


全自動濺射儀為掃描電鏡用戶在制樣過程中提供了更廣泛的選擇,以便適用支持掃描電子顯微鏡所需的涂層要求。磁控濺射的原理是,在電場內(nèi)在疊加一個磁場,這樣電子在疊加場內(nèi)做

螺旋運動,行程很長,每個電子電離的氣體分子比直流多很多很多,所以可以在低電壓下,有較好的真空度。濺射產(chǎn)生同樣的鍍膜效果。但是因為磁控真空度相對高,所以鍍膜的顆粒小,膜層附著力好,靶材的利用率也高。在直流濺射過程中,樣品的溫升主要來自于負(fù)離子在電場作用下對樣品的轟擊,在磁控濺射中,負(fù)離子都被磁場束縛了,所以基本沒有對樣品的轟擊,所以溫升基本沒有,很適合溫度敏感性的樣品制備。

系統(tǒng)特點:

○ 儀器采用微處理器控制,自動化程度高精確控制、易于操作;

低電壓、較好真空度下的實現(xiàn)大電流濺射,可濺射金、銀、銅、鉑等常用金屬靶材;

金膜顆粒絕大多數(shù)<1 0 n m,顆粒更細,均勻度更好,附著力更強,觀測效果更好;

靶材利用率更高,磁控濺射靶材利用率為直流濺射的2倍,為用戶節(jié)約靶材費用;

電子和負(fù)離子被磁場束縛在靶材附近,鍍膜過程中基本沒有溫升,適用溫度敏感性樣品;

采用微處理器控制,擴展性能好,可實時顯示真空度、濺射電流、濺射時間、設(shè)備運行時間;

靶材使用時間等,方便了解設(shè)備情況,具備過流、真空保護功能,安全可靠;

內(nèi)置用戶使用向?qū)Ш驼f明書,方便用戶操作。


GVC-2000磁控離子濺射儀.jpg       磁控離子濺射儀

指 標(biāo) 參 數(shù)

外形尺寸: 424× 290×2 65 (mm)  工作電壓: 200-240VAC 50H z

濺射電壓: DC 600V          控制模式: 微處理器控制

功率: 450W            濺射電流: ≤45 mA

濺射時間: ≤600s            極限真空 : 0.1Pa

工作真空: ≤30Pa            膜層厚度: 內(nèi)置膜厚估算(金靶)

真空測量: 電阻規(guī)           真空 速 率: 1L/s




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