全自動(dòng)超聲波清洗機(jī)工藝流程

1、研磨后的清洗

研磨是光學(xué)玻璃中決定其加工效率和表面質(zhì)量（外觀和精度）的重要工序。研磨工序中的主要污染物為研磨粉和瀝青，少數(shù)企業(yè)的加工過程中會(huì)有漆片。其中研磨粉的型號(hào)各異，一般是以二氧化鈰為主的堿金屬氧化物。根據(jù)鏡片的材質(zhì)及研磨精度不同，選擇不同型號(hào)的研磨粉。在研磨過程中使用的瀝青是起保護(hù)作用的，以防止拋光完的鏡面被劃傷或腐蝕。研磨后的清洗設(shè)備大致分為兩種： 一種主要使用有機(jī)溶劑清洗劑，另一種主要使用半水基清洗劑。

一、全自動(dòng)超聲波清洗機(jī)采用的清洗流程如下:

有機(jī)溶劑清洗劑（超聲波）-水基清洗劑（超聲波）-市水漂洗-純水漂洗-IPA（異丙醇）脫水-IPA慢拉干燥。

全自動(dòng)超聲波清洗機(jī)的主要用途是清洗瀝青及漆片。以前的溶劑清洗劑多采用三氯乙烷或三氯乙烯。由于三氯乙烷屬ODS（消耗臭氧層物質(zhì)）產(chǎn)品，處于強(qiáng)制淘汰階段；而長(zhǎng)期使用三氯乙烯易導(dǎo)致職業(yè)病，而且由于三氯乙烯很不穩(wěn)定，容易水解呈酸性，因此會(huì)腐蝕鏡片及設(shè)備。對(duì)此，國(guó)內(nèi)的清洗劑廠家研制了非ODS溶劑型系列清洗劑，可用于清洗光學(xué)玻璃；并且該系列產(chǎn)品具備不同的物化指標(biāo)，可有效滿足不同設(shè)備及工藝條件的要求。比如在少數(shù)企業(yè)的過程中，鏡片表面有一層很難處理的漆片，要求使用具備特殊溶解性的有機(jī)溶劑；部分企業(yè)的清洗設(shè)備的溶劑清洗槽冷凝管較少，自由程很短，要求使用揮發(fā)較慢的有機(jī)溶劑；另一部分企業(yè)則相反，要求使用揮發(fā)較快的有機(jī)溶劑等。

水基清洗劑的主要用途是清洗研磨粉。由于研磨粉是堿金屬氧化物，溶劑對(duì)其清洗能力很弱，所以鏡片加工過程中產(chǎn)生的研磨粉基本上是在水基清洗單元內(nèi)除去的，故而對(duì)水基清洗劑提出了*的要求。以前由于國(guó)內(nèi)的光學(xué)玻璃專用水基清洗劑品種較少，很多外資企業(yè)都選用進(jìn)口的清洗劑。而國(guó)內(nèi)已有公司開發(fā)出光學(xué)玻璃清洗劑，并成功地應(yīng)用在國(guó)內(nèi)數(shù)家大型光學(xué)玻璃廠，清洗效果*可以取代進(jìn)口產(chǎn)品，在腐蝕性（防腐性能）等指標(biāo)上更是優(yōu)于進(jìn)口產(chǎn)品。

對(duì)于IPA慢拉干燥，需要說明的一點(diǎn)是，某些種類的鏡片干燥后容易產(chǎn)生水印，這種現(xiàn)象一方面與IPA的純度及空氣濕度有關(guān)，另一方面與清洗設(shè)備有較大的關(guān)系，尤其是雙臂干燥的效果明顯不如單臂干燥的好，需要設(shè)備廠家及用戶注意此點(diǎn)。

清洗介質(zhì)

采用超聲波清洗，一般有兩種清洗劑：化學(xué)清洗劑和水基清洗劑。清洗介質(zhì)是化學(xué)作用，而超聲波清洗是物理作用，兩種作用相結(jié)合，以對(duì)物體進(jìn)行充分、*的清洗。

功率密度

超聲波的功率密度越高，空化效果越強(qiáng)，速度越快，清洗效果越好。但對(duì)于精密的、表面光潔度甚高的物體，采用長(zhǎng)時(shí)間的高功率密度清洗會(huì)對(duì)物體表面產(chǎn)生“空化”腐蝕。

頻率

超聲波頻率越低，在液體中產(chǎn)生空化越容易，作用也越強(qiáng)。頻率高則超聲波方向性強(qiáng)，適合于精細(xì)的物體清洗。

一般來說，超聲波在30℃~40℃時(shí)空化效果。清洗劑則溫度越高，作用越顯著。

通常實(shí)際應(yīng)用超聲波清洗時(shí)，采用40℃~50℃的工作溫度。