等離子除臭裝置低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài),當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的 放電電壓時(shí),氣體被擊穿,產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過(guò)程中雖然電子溫度很高,但重粒子溫度很低,整個(gè)體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài),所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用,使污染物分子在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解,并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到降解污染物的目的。(注:低溫等離子體相對(duì)于高溫等離子體而言,屬于常溫運(yùn)行。)
等離子體反應(yīng)區(qū)富含*的物質(zhì),如高能電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子等,廢氣中的污染物質(zhì)可與這些具有較高能量的物質(zhì)發(fā)生反應(yīng),使污染物質(zhì)在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解,并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到講解污染物的目的。
等離子除臭裝置等離子體去除污染物的基本過(guò)程
過(guò)程一:高能電子的直接轟擊
過(guò)程二:O原子或臭氧的氧化
O2+e→2O
過(guò)程三:OH自由基的氧化
H2O+e→OH+H
H2O+O→2OH
H+O2→OH+O
過(guò)程四:分子碎片+氧氣的反應(yīng)
低溫等離子體技術(shù)應(yīng)用于惡臭氣體治理,具有處理效果好,運(yùn)行費(fèi)用低廉、無(wú)二次污染、運(yùn)行穩(wěn)定、操作管理簡(jiǎn)便、即開(kāi)即用等優(yōu)點(diǎn)。
①介質(zhì)阻擋放電產(chǎn)生電子能量高,低溫等離子體密度大,達(dá)到常用等離子技術(shù)(電暈放電)的1500倍,幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作用;
②技術(shù)反應(yīng)速度快,氣體通過(guò)反應(yīng)區(qū)的速度達(dá)到3-15米/秒,即達(dá)到很好的處理效果,其他技術(shù)氣體通過(guò)反應(yīng)區(qū)的速度0.01米/秒都很難達(dá)到的處理效果;
③氣體通過(guò)部分,全部采用陶瓷、石英、不銹鋼等防腐蝕材料,電極與廢氣不直接接觸,根本上解決了低溫等離子體技術(shù)設(shè)備腐蝕問(wèn)題;其他技術(shù)是氣體與電極直接接觸,電極在3個(gè)月或1年內(nèi)會(huì)造成嚴(yán)重腐蝕,即使通過(guò)的氣體沒(méi)有腐蝕性,自身所產(chǎn)生的臭氧也會(huì)把電極造成腐蝕;