光電行業(yè)用超純水設(shè)備
光電行業(yè)用超純水設(shè)備在設(shè)計上，采用成熟、可靠、*、自動化程度高的兩級RO＋EDI＋精混床除鹽水處理工藝，確保處理后的超純水水質(zhì)出水電阻率達(dá)到18.2 MΩ.cm。
關(guān)鍵設(shè)備及材料均采用國際主流*可靠產(chǎn)品，采用PLC＋觸摸屏控制，全套系統(tǒng)自動化程度高，系統(tǒng)穩(wěn)定性高。大大節(jié)省人力成本和維護(hù)成本，水利用率高，運(yùn)行可靠，經(jīng)濟(jì)合理。使設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價比和設(shè)備可靠性。
我們公司專業(yè)生產(chǎn)反滲透＋EDI超純水設(shè)備，有多年的生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)，尤其在電控系統(tǒng)PLC方面在水處理行業(yè)技術(shù)都是比較成熟，我們也有做過很多各行業(yè)的水處理設(shè)備，這方面我們有豐富的經(jīng)驗(yàn)。我們公司做出來的設(shè)備質(zhì)量比他們都有優(yōu)勢，在國內(nèi)具有一定的市場竟?fàn)幜ΑＴ摦a(chǎn)品由于具備性能好、國外同類產(chǎn)品價格、供貨及時、售后服務(wù)方便快捷等諸多優(yōu)勢。在LED、LCD、半導(dǎo)體、光電等行業(yè)，得到了業(yè)界的廣泛贊譽(yù)，歡迎廣大客戶前來參觀考察。益民爭創(chuàng)業(yè)內(nèi)水處理，竭誠為新老客人提供優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品和技術(shù)服務(wù)！光電行業(yè)用超純水設(shè)備,光電超純水設(shè)備,光電超純水處理設(shè)備詳細(xì)資料請在本頁面底部下載。
一、光電行業(yè)用超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)：
我公司電子級超純水設(shè)備出水水質(zhì)*符合美國ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標(biāo)準(zhǔn)）、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
二、光電行業(yè)用超純水對水質(zhì)的要求：
新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。
三、應(yīng)用場合：
☆電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗
☆電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液
☆顯像管和陰極射線管生產(chǎn)、配料用純水
☆ 黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水
☆液晶顯示器的生產(chǎn)、屏面需用純水清洗和用純水配液
☆晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制
☆ 集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片
☆半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路
☆LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏
☆高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)
☆半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗
☆超純材料和超純化學(xué)試劑、超純化工材料
☆實(shí)驗(yàn)室和中試車間
☆汽車、家電表面拋光處理
☆光電產(chǎn)品、其他高科技精微產(chǎn)品
四、典型光電行業(yè)用超純水，純水設(shè)備，超純水設(shè)備用超純水制備工藝：
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象 （≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)
2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥18MΩ.CM）(工藝)
3、預(yù)處理→一級反滲透→加藥機(jī)（PH調(diào)節(jié)）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥17MΩ.CM）(工藝)
4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）(工藝)
5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象 （≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)
