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HMDS預(yù)處理真空烘箱

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱上海實貝儀器設(shè)備廠
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時間2022/6/8 11:59:14
  • 訪問次數(shù)390
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上海實貝儀器設(shè)備廠成立于2010年,是生產(chǎn)銷售實驗室設(shè)備、儀器儀表、醫(yī)用及分析設(shè)備的廠家,企業(yè)憑借有經(jīng)驗的研發(fā)設(shè)計團(tuán)隊及高效的制造能力,使產(chǎn)品技術(shù)不斷創(chuàng)新,改進(jìn)提升產(chǎn)品質(zhì)量?,F(xiàn)以生產(chǎn)銷售恒溫設(shè)備為核心的上海實貝儀器設(shè)備廠用全新的面貌服務(wù)客戶,“服務(wù)于客戶,立足于客戶”是我們的經(jīng)營理念,也是我們一直秉承的銷售思路,因為我們相信客戶才是企業(yè)的原動力,也是企業(yè)發(fā)展的基本。我們提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品、完善的售后服務(wù),并信守誠信經(jīng)營的原則,服務(wù)好每一位客戶,讓客戶滿意就是我們的責(zé)任與義務(wù)。

產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于航空、航天、通訊、機(jī)械電子、半導(dǎo)體、電器、汽車、化工、生物醫(yī)藥、醫(yī)療、食品、農(nóng)業(yè)科學(xué)、紡織、??圃盒<翱蒲械雀黝I(lǐng)域。

 

鼓風(fēng)干燥箱,恒溫培養(yǎng)箱,真空烘箱,高溫烤箱,工業(yè)烤箱,高低溫試驗箱,水浴箱,干烤滅菌器,真空測漏箱,真空脫泡箱,真空攪拌機(jī),熱風(fēng)循環(huán)烘箱,老化箱
HMDS預(yù)處理真空烘箱一、預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié),而涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝顯得更為必要,尤其在所刻線條比較細(xì)的時候,任何一個環(huán)節(jié)出現(xiàn)一點紕漏,都可能導(dǎo)致光刻的失敗
HMDS預(yù)處理真空烘箱 產(chǎn)品信息

HMDS預(yù)處理真空烘箱

一、預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:

在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié),而涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝顯得更為必要,尤其在所刻線條比較細(xì)的時候,任何一個環(huán)節(jié)出現(xiàn)一點紕漏,都可能導(dǎo)致光刻的失敗。在涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而晶片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,如果在晶片表面直接涂膠的話,會造成光刻膠和晶片的黏合性較差,甚至造成局部的間隙或氣泡,涂膠厚度和均勻性都受到影響,進(jìn)而會影響了光刻效果和顯影,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和晶片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕,所以涂膠工藝中引入一種化學(xué)制劑HMDS(六甲基二硅氮甲烷,英文全名Hexamethyldisilazane)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到晶片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物,是一種表面活性劑,它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。

二、產(chǎn)品結(jié)構(gòu)與性能

2.1產(chǎn)品結(jié)構(gòu):

1.設(shè)備外殼采用優(yōu)質(zhì)冷軋鋼板表面靜電噴塑,內(nèi)膽316L不銹鋼材料制成;無縫不銹鋼加熱管,均勻分布在內(nèi)膽外壁,內(nèi)膽內(nèi)無任何電氣配件及易燃易爆裝置;鋼化、雙層玻璃觀察窗,便于觀察工作室內(nèi)物品實驗情況。

2.箱門閉合松緊能調(diào)節(jié),整體成型的硅橡膠門封圈,確保箱內(nèi)保持高真空度。

3溫度微電腦PID控制,系統(tǒng)具有自動控溫、定時、超溫報警等,LCD液晶顯示,觸摸式按鍵,控溫準(zhǔn)確可靠。

4.智能化觸摸屏控制系統(tǒng)配套日本三菱PLC模塊可供用戶根據(jù)不同制程條件改變程序、溫度、真空度及每一程序時間。

5HMDS氣體密閉式自動吸取添加設(shè)計,使真空箱密封性能,確保HMDS氣體無外漏顧慮。

6.無發(fā)塵材料,適用百級光刻間凈化環(huán)境使用。

2.2產(chǎn)品性能:

1.由于是在經(jīng)過數(shù)次的氮氣置換再進(jìn)行的HMDS處理,所以不會有塵埃的干擾,系統(tǒng)是將去水烘烤和HMDS處理放在同一道工藝,同一個容器中進(jìn)行,晶片在容器里先經(jīng)過100-200℃的去水烘烤,再接著進(jìn)行HMDS處理,不需要從容器里傳出而接觸到大氣,晶片吸收水分子的機(jī)會大大降低,所以有著更好的處理效果。

2.由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以有液態(tài)涂布不可比擬更好的均勻性。

3.液態(tài)涂布是單片操作,而本系統(tǒng)一次可以處理多達(dá)4盒的晶片,效率高。

4.用液態(tài)HMDS涂布單片所用的藥液比用本系統(tǒng)處理4盒晶片所用藥液還多,經(jīng)實踐證明,更加節(jié)省藥液。

5. HMDS是有毒化學(xué)藥品,人吸入后會出現(xiàn)反胃、嘔吐、腹痛、刺激胸部、呼吸道等,由于整個過程是在密閉的環(huán)境下完成的,所以不會有人接觸到藥液及其蒸汽,也就更加安全,它的尾氣是直接由機(jī)械泵抽到尾氣處理機(jī),所以也不會對環(huán)境造成污染,更加環(huán)保和安全。

三、技術(shù)參數(shù):

規(guī)格型號

PVD-090-HMDS

PVD-210-HMDS

容積(L

90L

210L

控溫范圍

RT+10250

溫度分辨率

0.1

控溫精度

±0.5

加熱方式

內(nèi)腔體外側(cè)加溫

隔板數(shù)量

2PCS

3PCS

真空度

<133Pa(真空度范圍100100000pa

真空泵

抽氣速度4升/秒,型號DM4

電源/功率

AC220/50Hz3KW

AC380V/50Hz,4KW

內(nèi)膽尺寸W*D*Hmm

450*450*450

560*640*600

外形尺寸W*D*Hmm

650*640*1250

1220*930*1755

連接管:316不銹鋼波紋管,將真空泵與真空箱*密封無縫連接

備注:選配溫度壓力記錄儀時,因工藝需要改變設(shè)備整個外箱結(jié)構(gòu),請參考實物圖。外殼采用優(yōu)質(zhì)冷軋鋼板粉末靜電噴涂,內(nèi)膽采用316L不銹鋼,外箱尺寸為(W*D*Hmm980x655x1600(含下箱柜高700),下箱柜空置。適用于增加各類選配功能。

四、HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的原理:

HMDS預(yù)處理系統(tǒng)通過對烘箱HMDS預(yù)處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。

五、HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的一般工作流程:

首先確定烘箱工作溫度。典型的預(yù)處理程序為:打開真空泵抽真空,待腔內(nèi)真空度達(dá)到某一高真空度后,開始充入氮氣,充到某低真空度后,再次進(jìn)行抽真空、充入氮氣的過程,到達(dá)設(shè)定的充入氮氣次數(shù)后,開始保持一段時間,使硅片充分受熱,減少硅片表面的水分。然后再次開始抽真空,充入HMDS氣體,在到達(dá)設(shè)定時間后,停止充入HMDS藥液,進(jìn)入保持階段,使硅片充分與HMDS反應(yīng)。當(dāng)達(dá)到設(shè)定的保持時間后,再次開始抽真空。充入氮氣,完成整個作業(yè)過程。HMDS與硅片反應(yīng)機(jī)理如圖:首先加熱到100-200,去除硅片表面的水分,然后HMDS與表面的OH一反應(yīng),在硅片表面生成硅醚,消除氫鍵作,從而使極性表面變成非極性表面。整個反應(yīng)持續(xù)到空間位阻(三甲基硅烷基較大)阻止其進(jìn)一步反應(yīng)。

開箱溫度可以由user自行設(shè)定來降低process時間,正常工藝在50分鐘-90分鐘(按產(chǎn)品所需而定烘烤時間),為正常工作周期不含降溫時間(因降溫時間為常規(guī)降溫))。

六、尾氣排放:

多余的HMDS蒸汽(尾氣)將由真空泵抽出,排放到專用廢氣收集管道。在無專用廢氣收集管道時需做專門處理。

七、產(chǎn)品操作控制系統(tǒng)配置:

1. 標(biāo)配DM4直聯(lián)旋片式真空泵(外置);需要使用干泵可選愛德華或安捷倫(選購)

2. LCD液晶顯示溫度控制器,PLC觸摸屏操作模塊

3. 固態(tài)繼電器;加急停裝置

 

其它選配:

1.波紋管2米或3米(標(biāo)配是1米)

2.富士溫控儀表(溫度與PLC聯(lián)動)

3.三色燈      4.增加HMDS藥液瓶

5.低液位報警(帶聲光報警)

6HMDS管路加熱功能

7.開門報警       

8.壓力溫度記錄儀

15168338725
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