低溫等離子除臭設(shè)備采用 高臭氧UV紫外線光束、氧化反應(yīng)催化劑、 離子發(fā)生裝置的組合工藝來(lái)降解廢氣，改變惡臭、刺激型氣體如：氨、胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類、苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu)，使或無(wú)機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，通過(guò) 紫外線光束照射、催化劑的氧化反應(yīng)、正氧離子的氧化反應(yīng)，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。
低溫等離子除臭設(shè)備工作原理：
利用 的 高臭氧UV紫外線光束照射氣體及空氣中的氧分子，裂解氣體的分子鍵，并分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧)。游離狀態(tài)的污染物分子與臭氧氧化結(jié)合成小分子或低害的化合物，如CO2、H2O等。從而達(dá)到凈化氣體的效果。凈化能力可達(dá)。
反應(yīng)工程式：
1、UV+高分子物→低分子物
2、UV+空氣(O2)→O3
3、低分子物+O3→CO2+H2O+N2
低溫等離子除臭設(shè)備功能特點(diǎn)：
低溫等離子除臭設(shè)備具有一次性凈化率高，能同時(shí)凈化多種污染物，性能采用開關(guān)，電源，電路三重自動(dòng)保護(hù)，設(shè)備體積小，結(jié)構(gòu)緊湊，工藝成熟。設(shè)備投資少，運(yùn)行成本低。 穩(wěn)定，維護(hù)方便，使用壽命長(zhǎng)。凈化，無(wú)二次污染。
低溫等離子除臭設(shè)備性能優(yōu)勢(shì)：
（1） 除惡臭：能 去除揮發(fā)性物（VOC）、無(wú)機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭可達(dá)以上，脫臭效果超過(guò) 1993年頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)（GB14554-93）和1996年頒布的《大氣污染物綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》(GB16297-1996)。
（2）無(wú)需添加任何物質(zhì)：只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動(dòng)力，使惡臭/工業(yè)廢氣通過(guò)本設(shè)備進(jìn)行分解凈化，無(wú)需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。
（3）適應(yīng)性強(qiáng)：UV 光解凈化器可適應(yīng)高濃度，大氣量，不同工業(yè)廢氣物質(zhì)的脫臭、凈化處理，可每天24小時(shí)連續(xù)工作，運(yùn)行穩(wěn)定。
（4）運(yùn)行成本低：UV 光解凈化器無(wú)任何機(jī)械動(dòng)作，無(wú)噪音，無(wú)需專人管理和日常維護(hù)，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，設(shè)備風(fēng)阻低＜50pa，可節(jié)約大量排風(fēng)動(dòng)力能耗。
（5）無(wú)需預(yù)處理：氣體無(wú)需進(jìn)行的預(yù)處理，如加溫、加濕等，設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30℃－95℃之間，濕度在30%－、PH值在2-13之間均可正常工作。
（6）設(shè)備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場(chǎng)地狹小等條件，設(shè)備占地面積＜1.2平方米/處理10000m3/h風(fēng)量。
（7） 材料制造：、性能高，設(shè)備性能 穩(wěn)定，采用不銹鋼材質(zhì)，設(shè)備使用壽命在十五年以上。
（8）環(huán)保產(chǎn)品：采用 上技術(shù)理念，通過(guò)專家及我公司工程技術(shù)人員長(zhǎng)期反復(fù)的試驗(yàn)，研制出的，具有 自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的環(huán)保凈化產(chǎn)品可 分解工業(yè)廢氣中物質(zhì)，并能達(dá)到 的脫臭、凈化效果，經(jīng)分解后的工業(yè)廢氣，可 達(dá)到化排放，不產(chǎn)生二次污染，同時(shí)達(dá)到 的作用。
低溫等離子除臭設(shè)備技術(shù)理論支持：
低溫等離子除臭設(shè)備采用的大功率 紫外線放電管，屬低壓水銀放電管，發(fā)出的紫外線波長(zhǎng)主要為170nm及184.9nm（目前正在150nm到184.9nm波長(zhǎng)系列產(chǎn)品），光子能量分別為742KJ/mol和647KJ/mol。要裂解切斷污染物質(zhì)分子的分子鍵，就要使用發(fā)出比污染物質(zhì)分子的結(jié)合能強(qiáng)的光子能。
