ORTEC“寬能”高純鍺（HPGe)伽馬γ能譜儀
一、高純鍺探測(cè)器：
“寬能”探測(cè)器：GEM-S/GEM-C/GEM-SP
三個(gè)系列可選：“精銳”、“全優(yōu)”和“超精銳”
性能指標(biāo)上綜合了傳統(tǒng)GEM與GMX探測(cè)器的優(yōu)勢(shì)；能量下限降至3keV;分辨率優(yōu)異；中低能段效率顯著提升；
GEM-S和GEM-C系列采用超薄可靠接觸極，GEM-SP系列采用點(diǎn)接觸極；
在常溫下保存不會(huì)損害探測(cè)器性能；
嚴(yán)格保證效率、分辨率、峰型與峰康比等完整指標(biāo)；
以晶體尺寸定義型號(hào)，同一型號(hào)的探測(cè)器采用相同的晶體結(jié)構(gòu)和尺寸，從而保證了相當(dāng)一致的效率曲線。
1、精銳系列：GEM-S
2、全優(yōu)系列：GEM-C系列
3、超精銳系列：GEM-SP系列：
以上型號(hào)通常采用整體低本底碳纖維外罩封裝，型號(hào)上有LB-C后綴，同時(shí)匹配CFG-SV-LB超低本底冷指。探測(cè)器出廠時(shí)保證以上全部指標(biāo)并提供本底譜圖。
二、標(biāo)準(zhǔn)形制同軸探測(cè)器：GEM-F/GEM-M
應(yīng)用（測(cè)量）中如不關(guān)注低能射線，ORTEC提供基于傳統(tǒng)GEM工藝、但以晶體尺寸定義型號(hào)的探測(cè)器。
1、GEM-F系列：短同軸探測(cè)器（尤其適合于濾紙/濾膜等扁平樣品）
2、GEM-M系列：同軸探測(cè)器 （尤其適合于體源/馬林杯樣品）
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GEM-S8530、GEM50和GMX50效率比較 （點(diǎn)源，與端帽距離25cm） | GEM-S8530、GEM50和GMX50效率比較 （直徑100mm濾紙?jiān)捶旁诙嗣鄙希?/span> |
二、能譜儀：
小巧的外觀，強(qiáng)大的功能
一切控制與參數(shù)設(shè)置由計(jì)算機(jī)進(jìn)行。
高的數(shù)據(jù)通過率：大于100Kcps (DSPEC-Pro大于130Kcps)。
數(shù)字化穩(wěn)譜、數(shù)字化自動(dòng)極零、自動(dòng)化、內(nèi)置虛擬示波器和數(shù)字化門控基線恢復(fù)等功能。
液體顯示屏顯示活時(shí)間、死時(shí)間、輸入計(jì)數(shù)率、高壓實(shí)時(shí)值等設(shè)置和狀態(tài)信息
用戶可預(yù)置多個(gè)核素的MDA，在所有MDA滿足時(shí)自動(dòng)終止計(jì)數(shù)。
統(tǒng)一的“即插即用”式背面板接口，與DIM/Smart-1匹配，相互間具有良好的互換性與兼容性。
2、便攜式高純鍺/NaI/LaBr數(shù)字化譜儀DigiDart/DigiDart-LF基本特征
集數(shù)字化譜儀、鍵盤、顯示屏、軟件與譜存儲(chǔ)器于一體，可以獨(dú)立完成現(xiàn)場(chǎng)刻度、參數(shù)設(shè)置、測(cè)量、分析、保存譜等一切工作，可*脫離計(jì)算機(jī)
可匹配ORTEC高純鍺或閃爍體探測(cè)器
DigiDart可保存23個(gè)16K譜圖，DigiDart-LF可保存150個(gè)2K譜圖
性能指標(biāo)毫不遜色于實(shí)驗(yàn)室譜儀
交流電和鋰電池兩種供電方式，四節(jié)鋰電池充電后，可連續(xù)工作9小時(shí)
高度防水、抗震，工作溫度-10℃到60℃
可最多設(shè)置9個(gè)ROI，可在線計(jì)算并顯示活度和不確定度
屏幕顯示計(jì)數(shù)率、實(shí)時(shí)譜、狀態(tài)等信息
通過USB連接電腦進(jìn)行數(shù)據(jù)傳輸，
通過USB連接電腦時(shí)，可*代替實(shí)驗(yàn)室數(shù)字化譜儀（鍵盤和屏幕自動(dòng)鎖定）
重量（包括電池）小于900g.
3、實(shí)驗(yàn)室數(shù)字化譜儀DSPEC-50 & DSPEC-502
DSPEC-50是ORTEC于成立50周年之際推出的新一款數(shù)字化譜儀。主要特點(diǎn)：
指標(biāo)優(yōu)秀，功能齊全，各項(xiàng)參數(shù)等同于DSPEC-Pro；
提供單個(gè)MCA（DSPEC-50）和雙路MCA（DSPEC-502）選擇；
既可以直接連接探測(cè)器，也可以由DIM連接探測(cè)器；
同時(shí)提供USB2.0和以太網(wǎng)接口；
抗力強(qiáng)；
大屏幕彩色液晶可以連續(xù)顯示狀態(tài)和譜圖信息：
4、技術(shù)參數(shù) ：
數(shù)據(jù)通過率 | 大于100kcps（DSPEC-Pro在“增強(qiáng)通過率”模式下大于130kcps） |
增益 | 粗調(diào)：1,2,4,8,16,或32 細(xì)調(diào)：0.45至1.00 |
成形時(shí)間常數(shù) | 上升時(shí)間：0.8至23ms，可調(diào)，每步0.2ms，由計(jì)算機(jī)選擇 平頂時(shí)間：0.3至2.4ms，每步0.1ms，由計(jì)算機(jī)選擇 自動(dòng)化功能自動(dòng)調(diào)整 |
轉(zhuǎn)換增益 | 16384，8192，4096，2048，1024或512道，由計(jì)算機(jī)選擇 |
非線性 | 積分非線性：≤±0.025% 微分非線性：≤±1% |
數(shù)字化穩(wěn)譜器 | 由計(jì)算機(jī)控制并穩(wěn)定增益和零點(diǎn) |
溫度系數(shù) | 增益:<35ppm/°C |
過載恢復(fù) | 在增益時(shí)，能在2.5倍的非過載脈沖寬度內(nèi)從1000倍過載恢復(fù)至額定輸出的2%以內(nèi) |
脈沖抗堆積 | 自動(dòng)設(shè)定域值，脈沖對(duì)分辨率為500ns |
自動(dòng)數(shù)字化極零調(diào)節(jié) | 由計(jì)算機(jī)控制，可以手動(dòng)或自動(dòng)設(shè)定，遠(yuǎn)程模擬示波器方式診斷 |
LLD/ULD | 數(shù)字下域電平甄別器，以道為單位設(shè)置，LLD以下所有各道的計(jì)數(shù)被卡掉 數(shù)字上域電平甄別器，以道為單位設(shè)置，ULD以上所有各道的計(jì)數(shù)被卡掉 |
數(shù)字化門控基線恢復(fù)器 | 可由計(jì)算機(jī)調(diào)節(jié)恢復(fù)頻率（高、低或自動(dòng)） |
數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器 | 存儲(chǔ)16384道數(shù)據(jù)，不丟失，每道容量231-1（約20億）個(gè)計(jì)數(shù) |
計(jì)數(shù)率顯示 | 在譜儀或電腦屏幕上顯示計(jì)數(shù)率 |
死時(shí)間校正 | 按Gedcke-Hale法活時(shí)間校正，精度（隨峰面積而變化）：<+3%(0–50,000cps) |
顯示 | 240×160像素背光液晶顯示(LCD屏，顯示活時(shí)間、死時(shí)間、狀態(tài)等信息 |
接口 | USB2.0 |
尺寸與重量 | -LF，-jr2.0,-Pro：24.9D×20.3W×8.1Hcm/1.0kg DIM：11.2D×3.13W×6.5Hcm/240g DigiDart：20D×10W×7.5Hcm/＜900g（含電池） |
工作環(huán)境條件 | -LF，-jr2.0,-Pro5°C到50°C（包括LCD顯示） |
操作系統(tǒng) | Windows98/2000/XP/Vista/NT |
5、ORTEC數(shù)字化譜儀性能比較
數(shù)字化譜儀 | DSPEC-502 | DSPEC-jLF | DSPEC-ji-2.0 | DSPEC-Pro | digiDART | digiDART-LF |
特性 | 雙路高性能 | 普通 | 動(dòng)態(tài)測(cè)量 | 便攜式 | 便攜式 | |
γ探測(cè)器 | HPGe | HPGe | HPGe | HPGe | HPGe/NaI/LaBr | HPGe/NaI/LaBr |
自動(dòng)優(yōu)化 | √ | √ | √ | √ | √ | √ |
數(shù)字化自動(dòng)極零 | √ | √ | √ | √ | √ | √ |
零死時(shí)間校正ZDT | √ | x | √ | √ | √ | √ |
內(nèi)置虛擬示波器 | √ | x | √ | √ | √ | √ |
彈道虧損校正 | √ | x | √ | √ | √ | √ |
數(shù)字化門控基線恢復(fù) | √ | √ | √ | √ | √ | √ |
低頻抑制器LFR | √ | x | √ | x | x | x |
序列模式List Mode | √ | x | x | √ | x | x |
數(shù)據(jù)通過率（kcps，關(guān)閉LFR) | 100 | 100 | 100 | 130 | 100 | 100 |
MCA道數(shù) | 16384 | 16384 | 16384 | 16384 | 16384 | 2048 |
與探測(cè)器接口 | 分散/DIM | DIM | DIM | DIM | DIM | DIM |
與PC接口 | Ethernet/USB2.0 | USB2.0 | USB2.0 | USB2.0 | USB2.0 | USB2.0 |
工作溫度（℃） | 0-50 | 0-50 | 0-50 | 0-50 | -10-60 | -10-60 |
三、制冷方式：
ORTEC除了傳統(tǒng)的液氮制冷方式外，還有電制冷、Mobius液氮回凝制冷，最近又新推出了ICS集成電制冷。
1、X-COOLER III電制冷
X-COOLER-III（美國(guó)6,380,544號(hào)）是ORTEC于1998年推出的第三代電致冷產(chǎn)品，采用世界范圍內(nèi)迄今應(yīng)用廣泛的高純鍺電制冷技術(shù)，可與任何體積、大小的、采用Pop Top結(jié)構(gòu)的高純鍺探測(cè)器匹配；
省錢！省事??！省心?。?！
避免了填充液氮的累贅和安全隱患；
探測(cè)器方位可靈活調(diào)整；
與ORTEC所有PopTop結(jié)構(gòu)高純鍺探測(cè)器匹配；
已在世界范圍內(nèi)廣泛應(yīng)用，在中國(guó)的運(yùn)行數(shù)量超過100臺(tái)套。
外形尺寸 | 壓縮機(jī)長(zhǎng)31.8cm，寬31.8cm，高28cm |
重量 | 壓縮機(jī)16.4 kg；冷指5 kg |
輸入電源 | 交流220–240 V，50 Hz |
功耗 | 啟動(dòng)時(shí)小于500W；正常運(yùn)行時(shí)小于400W |
致冷劑 | 混合氣體，不含CFC |
連接軟管 | 壓縮機(jī)機(jī)箱和冷頭用3米長(zhǎng)軟管相連 |
環(huán)境適應(yīng)性 | 溫度：5–30°C，相對(duì)濕度：5–95% 無冷凝 |
2、MOBIUS液氮回凝制冷器
仍采用液氮制冷，但采用Sun Power斯特林壓縮機(jī)使其在相當(dāng)長(zhǎng)周期內(nèi)保持液氮水平，從而維系探測(cè)器在低溫下工作；
斷電情況下可靠液氮維系制冷，工作的連續(xù)性得到更好保障；
減少液氮填充的材料與人力消耗成本；
控制/顯示電路與電源同杜瓦分離而不會(huì)受到液氮影響；
28升液氮罐，不斷電情況下可連續(xù)工作近兩年；
可匹配垂直或水平冷指。
自帶感應(yīng)與控制元件，以文字或數(shù)字形式顯示如下信息：制冷狀態(tài)：是否在液氮循環(huán)狀態(tài)；>在當(dāng)前制冷狀態(tài)下所能維持的制冷時(shí)長(zhǎng)（以小時(shí)數(shù)顯示）。
制冷維系時(shí)長(zhǎng)為48小時(shí)時(shí)，給出提示，并報(bào)警。
外形尺寸 | 66.5cm高x 44.1cm直徑（不含探測(cè)器） |
功耗 | 典型值125W，300W |
工作環(huán)境 | 0 - 40℃，相對(duì)濕度20%至90%（無冷凝） |
噪聲 | 1m處小于60分貝 |
日常維護(hù) | 每月清洗或更換一次空氣濾網(wǎng) |
3、ICS集成電制冷
可選配任一效率的 P 型 HPGe 探測(cè)器；
微型斯特林壓縮機(jī)制冷；*脫離液氮；
可用于實(shí)驗(yàn)室與車（船）載多種場(chǎng)合，輕 巧、易于移動(dòng)與組裝；
使用主動(dòng)避震技術(shù)，對(duì)分辨率無影響；
長(zhǎng)達(dá) 200,000 小時(shí)的使用壽命；
采用核級(jí)真空保持技術(shù)，可以在局部回溫 情況下隨時(shí)啟動(dòng)制冷；
冷指長(zhǎng)度 2-12inch 內(nèi)可調(diào)；
無需任何維護(hù)；
可選配任何效率的P型同軸探測(cè)器，N型和寬能探測(cè)器請(qǐng)聯(lián)系工廠定制；
能量響應(yīng)范圍同P型HPGe探測(cè)器；
前置放大器：可選Plus放快前放；
可外接ORTEC DSPEC系列數(shù)字化譜儀；
可選ICS-STAND ICS匹配支架。
重量 | 18 kg，不包括探測(cè)器； |
電源及功率： | AC100~240V，典型功率70W，功率130。 |
工作環(huán)境 | 溫度范圍：-10°C ~40°C；相對(duì)濕度：＜90%@30°C， 無冷凝。 |
噪音 | 小于60dB@1米處 |
四、軟件：
ORTEC的高性能，超低背景Ge輻射探測(cè)器防護(hù)罩具有質(zhì)量的工藝和材料。它們包括基于多年鉛屏蔽設(shè)計(jì)經(jīng)驗(yàn)的功能，提供的性能和易用性。
所有ORTEC高性能，超低背景鉛屏蔽均采用1英寸厚的原始鉛*內(nèi)層，可形成4或6英寸鉛材料的總厚度。提供了銅和錫層的分級(jí)內(nèi)襯，用于抑制鉛X射線。支撐架和屏蔽護(hù)套由低碳鋼制成。所有外表面均采用耐用的紋理聚氨酯制成。所有防護(hù)罩均在工廠進(jìn)行調(diào)整，可移動(dòng)的門和蓋子與包裝材料一起定位，以防止在運(yùn)輸過程中打開。所有防護(hù)罩都需要由合格的Rigger專業(yè)安裝，這些Rigger能夠承受重型安裝。安裝后，蓋子（和適用的門）只需要很少的調(diào)整就可以去除任何包裝材料并確保正常操作。每個(gè)護(hù)罩都配有初始調(diào)整說明，警告和扳手。補(bǔ)漆可以與材料安全數(shù)據(jù)表（MSDS）單獨(dú)訂購(gòu)，可能需要特殊運(yùn)輸。
每個(gè)ORTEC防護(hù)罩都配有以下產(chǎn)品：
1.剛性支撐架
2.鉸鏈調(diào)整說明
3.組裝扳手
4.抬起眼睛和蓋子約束支架
5.兩個(gè)適合海外運(yùn)輸?shù)闹匦湍就斜P/板條箱
五、軟件
一、Maestro和GammaVision解譜軟件
ORTEC 在軟件的研發(fā)上始終保持與Windows操作系統(tǒng)的兼容性，操作界面十分友好而簡(jiǎn)潔。僅以GammaVision兩點(diǎn)作為例證：對(duì)于系統(tǒng)的一切參數(shù)設(shè)置在同一個(gè)軟件界面下完成。
MAESTRO軟件
Maestro是ORTEC的基本譜獲取軟件，可識(shí)別并處理ORTE 所有形式和型號(hào)的MCA信號(hào)。
Maestro具體的功能包括：能譜獲取、能量刻度、峰識(shí)別、編輯核素庫(kù)、建立、存儲(chǔ)和打印感興趣區(qū)(ROI)、通過簡(jiǎn)單的任務(wù)流自動(dòng)完成重復(fù)性測(cè)量任務(wù)等
Maestro可設(shè)置增益細(xì)調(diào)、上/下甄別閾、調(diào)節(jié)高壓、脈沖寬度等參數(shù)；啟用/停止數(shù)字化譜儀穩(wěn)譜功能；顯示實(shí)時(shí)間/活時(shí)間......
GammaVision軟件
GammaVision是建立在Maestro基礎(chǔ)上，集硬件控制、能譜獲取、數(shù)據(jù)分析、報(bào)告生成和質(zhì)量控制于一體的專業(yè)軟件包。
GammaVision具有多路譜圖同步獲取功能MDI（Multiple Detector Interface）。與Windows、Windows XP、Windows NT等軟件良好兼容。
GammaVision現(xiàn)在的版本是V7.02，其功能已臻。
五種分析引擎
WAN32：GammaVision原始分析引擎，采用庫(kù)引導(dǎo)尋峰，用于一般應(yīng)用及分析研究型譜數(shù)據(jù)。
GAM32：Mariscotti法尋峰，并對(duì)核素庫(kù)進(jìn)行“預(yù)過濾”，以減少環(huán)境樣品測(cè)量的正向偏差。
NPP-32：用于裂變產(chǎn)物復(fù)雜譜圖的分析。
ENV32： 用于環(huán)境水平樣品的分析，Mariscotti法尋峰，同時(shí)產(chǎn)生活度與MDA報(bào)告。
ROI32：感興趣區(qū)分析引擎
能量與效率刻度
在初次手工刻度完成之后，軟件根據(jù)存儲(chǔ)的標(biāo)準(zhǔn)源數(shù)據(jù)文件，可*自動(dòng)完成能量、峰形與效率重新刻度。
效率曲線的定義方式有：?jiǎn)我缓瘮?shù)多項(xiàng)式擬合、插值法、用戶定義的“拐點(diǎn)”（Knee）前后的二項(xiàng)式擬合或線性擬合。
可根據(jù)刻度過程中的圖形清楚地判斷刻度結(jié)果是否滿意。
本底確定方法
自動(dòng)確定法、多點(diǎn)法、拋物線法、引導(dǎo)式擬合及階躍法等。一般軟件會(huì)自動(dòng)選定方法。
譜分析中的校正
用于本底中存在待測(cè)核素峰的PBC校正（Peaked Background Correction）；
手動(dòng)或自動(dòng)峰間干擾校正；
不同基質(zhì)的衰減因子校正；
樣品幾何形狀校正；
樣品收集與譜獲取期間衰變校正。
ZDT（Zero Dead Time）
用于高活度樣品分析中的死時(shí)間校正，方法同時(shí)給出不確定度。
用于高活度樣品分析中的死時(shí)間校正，方法同時(shí)給出不確定度。
TCC（True Coincidence Summing Correction）
用于級(jí)聯(lián)伽瑪射線產(chǎn)生的和峰效應(yīng)的校正。
重峰分析方法
結(jié)合尋峰程序與核素庫(kù)進(jìn)行引導(dǎo)。必要時(shí)根據(jù)已識(shí)別峰進(jìn)行能量重刻度。
多峰活度平均：
對(duì)同一核素的多個(gè)g峰按其相對(duì)豐度（分支比）進(jìn)行活度計(jì)算后給出平均值。
MDA計(jì)算：
ORTEC MDA、ORTEC Critical Level、KTA MDA、PISO MDA、Currie Limit等16種算法。
分析結(jié)果報(bào)告：
未知峰；按核素庫(kù)峰的能量排列；按核素庫(kù)峰的同位素種類排列；總活度。
不確定度報(bào)告
活度百分比；
計(jì)數(shù)或總計(jì)數(shù)不確定度；
1、2或3個(gè)Sigma（s）；
系統(tǒng)誤差或隨機(jī)不確定度。
推演的同位素定量報(bào)告
平均能量（EBar），按TID14844標(biāo)準(zhǔn)；
碘當(dāng)量：按TID14844標(biāo)準(zhǔn)；
DAC（Maximum Permissible Concentration）。
所有分析結(jié)果的報(bào)告均以與MS Access兼容的格式存儲(chǔ)，用戶可以自行編輯。
所有與譜分析結(jié)果相關(guān)的硬件參數(shù)都隨之一同保存，以便于回溯檢驗(yàn)。
分析用核素庫(kù)
GammaVision-32包括一個(gè)功能強(qiáng)大的可編輯核素庫(kù)，用戶可以根據(jù)實(shí)際需要建立自己的專門核素庫(kù)并對(duì)感興趣峰加以標(biāo)簽（如單逃逸峰，c-射線峰等）。
質(zhì)量保證（Quality Assurance）
按ANSI N13.30標(biāo)準(zhǔn)，隨時(shí)記錄每個(gè)探測(cè)器的以下參數(shù)：
探測(cè)器總本底；
經(jīng)衰變校正的所有刻度核素的總活度
平均FWHM比（實(shí)測(cè)譜與刻度標(biāo)準(zhǔn)相比）
平均FW0.1M比（實(shí)測(cè)譜與刻度標(biāo)準(zhǔn)相比）
平均峰漂移（偏離核素庫(kù)值）
實(shí)際峰中心能量。
為更好地服務(wù)于中國(guó)用戶，ORTEC已推出了GammaVision中文版本。
ORTEC十分注重其軟、硬件產(chǎn)品的延續(xù)性與相互兼容性，其所有軟件產(chǎn)品都屬于Connections-B32家族，并且可提供完整的開發(fā)工具軟（A11-B32）。這樣，無論年代有多久遠(yuǎn)，ORTEC的產(chǎn)品都有很好的互換性，且十分容易實(shí)現(xiàn)網(wǎng)絡(luò)控制與通訊。
對(duì)ORTEC高純鍺譜儀的遠(yuǎn)程控制，只需要遠(yuǎn)程計(jì)算機(jī)與現(xiàn)場(chǎng)計(jì)算機(jī)均與網(wǎng)絡(luò)連接即可輕松實(shí)現(xiàn)。
二、ANGLE V3.0 無源效率刻度軟件
ANGLE V3.0是一款應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)室高純鍺伽瑪譜儀的無源效率刻度軟件。
ANGLE原理是基于對(duì)每套實(shí)驗(yàn)室譜儀，以點(diǎn)源的完整效率曲線為基準(zhǔn)，結(jié)合算法與相對(duì)算法，并由無數(shù)實(shí)驗(yàn)修正，以"效率轉(zhuǎn)換”（efficiency transfer）方法推演其它柱體狀（體源）、平面狀（面源）或馬林杯樣品源等形式樣品的效率刻度曲線。方法在較大程度上排除了采用純粹的蒙特卡洛方法時(shí)，探測(cè)器參數(shù)輸入偏差（尤其如死層厚度）而導(dǎo)致的較大誤差。
在探測(cè)器長(zhǎng)時(shí)間使用或經(jīng)維修后特性發(fā)生變化情況下，用戶可隨時(shí)用成系列的一套標(biāo)準(zhǔn)源完成對(duì)系統(tǒng)的重新“表征”。
相對(duì)采用純粹蒙特卡羅方法的軟件，Angle軟件的用戶界面簡(jiǎn)潔，軟件在相應(yīng)圖形中顯示輸入?yún)?shù)的位置，避免了術(shù)語不同導(dǎo)致的問題。
即將推出中文版Angle 4。
效率誤差通常不超過5%
支持常用探測(cè)器類型，即將推出的Angle 4，支持NaI探測(cè)器
支持馬林杯容器
支持點(diǎn)源、片源和體源
可設(shè)置感興趣能量點(diǎn)、擬合能量區(qū)間和擬合多項(xiàng)式系數(shù)
圖形化直觀界面，輸入?yún)?shù)時(shí)，同步圖形顯示輸入?yún)?shù)的部位，避免術(shù)語不一致帶來的問題
預(yù)定義常用材料。新材料定義方式多樣，可以元素混合物、化合物、化合物混合物方式定義新材料，操作簡(jiǎn)單
多種報(bào)告界面，輸出可復(fù)制到剪貼板，便于在Word等文字處理軟件中編輯
方法的可溯源性：如基準(zhǔn)效率曲線所用的刻度點(diǎn)源為可溯源，則結(jié)果亦可溯源。
ORTEC可在出廠時(shí)提供具體探測(cè)器（系統(tǒng)）的點(diǎn)源效率曲線。
軟件保存完整信息，某一參數(shù)發(fā)生變化時(shí)，可調(diào)用歷史數(shù)據(jù)進(jìn)行修改，再生成新的效率曲線
探測(cè)器、容器參數(shù)輸入界面
新材料定義界面
設(shè)置感興趣能量點(diǎn)、擬合能量區(qū)間和擬合多項(xiàng)式系數(shù)
獲得實(shí)際樣品的效率刻度曲線步驟：
1、輸入探測(cè)器信息：名稱、類型、晶體高度和直徑、內(nèi)接觸極孔直徑和深度、外接觸極材料與厚度、晶體死層厚度、導(dǎo)出極材料與尺寸等；
2、輸入樣品容器信息：（對(duì)體源、馬林杯或帶支架樣品）：名稱、形狀、材料、（內(nèi)外）直徑、高度、壁厚等；
3、輸入樣品信息：名稱、材料、重量、高度、直徑等
4、保存以上信息，計(jì)算，生成效率曲線
5、命名得到的效率曲線，導(dǎo)入GamaVision
