NF-300H
HTM PECVD設(shè)備
產(chǎn)品特點(diǎn)
- 高產(chǎn)能設(shè)計(jì)和可實(shí)現(xiàn)多種薄膜沉積的快速切換
- 可實(shí)現(xiàn)多層SiO2,SiN(ONON)堆疊功能
- 滿(mǎn)足300-600℃高溫沉積需求
- PM腔內(nèi)可進(jìn)行多片wafer沉積和wafer自動(dòng)升降旋轉(zhuǎn)功能
- 通過(guò)S2安全認(rèn)證
NF-300H
HTM PECVD設(shè)備
產(chǎn)品特點(diǎn)
- 高產(chǎn)能設(shè)計(jì)和可實(shí)現(xiàn)多種薄膜沉積的快速切換
- 可實(shí)現(xiàn)多層SiO2,SiN(ONON)堆疊功能
- 滿(mǎn)足300-600℃高溫沉積需求
- PM腔內(nèi)可進(jìn)行多片wafer沉積和wafer自動(dòng)升降旋轉(zhuǎn)功能
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