快速熱處理退火爐簡稱 RTP（Rapid Thermal Processing Furnace），由我公司借鑒了制造工藝，在管式爐的基礎上自主研發(fā)而成。這款不但擁有很快的升溫速率100℃/S，而且降溫速率也有了質(zhì)的飛躍，降溫速率100℃/S。我們的工程師們巧妙的設計工藝使得冷卻氣體直接對著樣品直吹，以至于達到如此快的降溫速度。真正的極速升溫和極速降溫！
此款設備采用了成儀自主研發(fā)的智能AIO（All In One）控制系統(tǒng)，實現(xiàn)了爐膛自動左右移動，爐膛在左側(cè)加熱到設定溫度后，直接移動到右側(cè)樣品區(qū)域，實現(xiàn)樣品快速升溫，樣品加熱到設定溫度和時間后，爐膛自動移開樣品加熱區(qū)，實現(xiàn)樣品的快速降溫。成儀AIO智能控制系統(tǒng)不但實現(xiàn)了真空系統(tǒng)開啟、保護氣氛通斷以及冷卻氣體通斷的自動協(xié)調(diào)控制，而且還能自動平衡爐管內(nèi)的壓力大小，真正實現(xiàn)了操作方便，而且安全可靠。
功能舉例：樣品加熱到1000℃后，爐膛自動移開加熱區(qū)，冷卻氣體自動打開直吹樣品表面實現(xiàn)極速降溫，樣品溫度降到70℃時自動關閉冷卻氣體。然后爐膛移動到加熱區(qū)繼續(xù)加熱，如此往復，往復次數(shù)可用戶自定義。真空系統(tǒng)可根據(jù)用戶設定溫度自動開啟和關閉。
應用領域
? 快速熱退火 (RTA); 離子注入后退火
? 石墨烯等氣象沉積，碳納米管等外延生長
? 快速熱氧化 (,RTO); 熱氮化 (RTN);
? 硅化 (Silicidation);
? 擴散 (Diffusion);
? 離子注入后退火 (Implant Annealing);
? 電極合金化 (Contact Alloying);
? 晶向化和堅化 (Crystallization and Densification);
主要特點
? 極速升溫100℃/S，極速降溫100℃/S；
? 雙層爐管結(jié)構，氣氛與樣品接觸更均勻；
? 直接測量樣品表面溫度，測溫更精準；
? 爐膛根據(jù)設置可自動左右移動，可以滿足更多的實驗應用；
? 樣品實際溫度數(shù)據(jù)可通過手機APP導出excel表格；
產(chǎn)品名稱 | RTP多功能快速退火爐 |
產(chǎn)品型號 | RTP1100-M |
額定溫度 | 1100℃ |
溫場均勻性 | ±2℃ |
爐膛升溫速率 | ≥100℃/S |
降溫速率 | ≥100℃/S |
控溫方式 | 爐膛與樣品要分別控溫，兩個測溫點 |
爐膛移動方式 | 根據(jù)用戶樣品設定溫度自動左右移動，往復次數(shù)可調(diào)節(jié) |
操控系統(tǒng) | 智能AIO操作系統(tǒng) |
操作界面 | 7英寸觸摸屏 |
加熱方式 | 短波紅外線加熱 |
加熱腔體結(jié)構 | 雙層石英管 |
外管直徑 | 100mm |
內(nèi)管直徑 | 80mm |
氣體保護方式 | 外管進氣，內(nèi)管出氣 |
壓力保護 | 管內(nèi)自動恒壓（0.8～1.2個大氣壓任意可調(diào)） |
樣品冷卻 | 加熱后爐膛自動移開，冷氣打開直吹樣品，降到設定溫度自動關閉冷卻氣體。 |
冷卻氣體調(diào)節(jié) | 浮子流量計(100～1000ml/min) |
超溫保護 | 溫度出現(xiàn)過高時切斷主回路 |
式樣有效空間 | 90*100mm |
真空系統(tǒng) | 8L/S雙級聯(lián)真空系統(tǒng) |
整機真空度 | 0.5Pa |
真空啟動方式 | 根據(jù)程序設置自動啟停 |
抽氣端口尺寸 | KF16 |
供氣口尺寸 | 1/4英寸雙卡套 |
法蘭冷卻方式 | 水冷（短時間無需水冷） |
真空顯示 | 數(shù)字真空壓力表 |
上位機操控 | 基于安卓系統(tǒng)APP |
數(shù)據(jù)導出方式 | APP導出Excel表格 |
額定功率 | 12kw |
外形尺寸 | 950*500*560mm |
重量 | 50kg |
配件 | 管堵2支，法蘭水冷套1支，耐溫手套1雙，坩堝鉗1把，說明書1本。 |
