英國Emitech高真空離子濺射儀K575X/K575D使用“渦輪”泵，前級為旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵，整個(gè)抽真空過程為自動(dòng)控制。真空度可調(diào)整，以適應(yīng)鉻或其它易氧化金屬，以及金靶等不同材料要求，定時(shí)器可設(shè)置成不同的濺射時(shí)間。

本系統(tǒng)裝配了磁控管靶，靶面直徑為54 mm，可快速更換靶材。

濺射頭用Peltier制冷，可得到高性能、精細(xì)顆粒的涂層（無需水冷卻）。

濺射時(shí)參數(shù)可預(yù)設(shè)，包括氣體放氣電磁閥。

K575D（雙頭）其它與K575X相同，只是具有兩個(gè)濺射頭。在進(jìn)行特殊涂層的應(yīng)用時(shí)，不需要打開真空即可進(jìn)行兩層沉積濺鍍。

注：K575D技術(shù)規(guī)格與K575X相同，但它有雙頭。K575X具有peltier制冷，對于比較厚的沉積，通常用K575D（雙頭）單元。

英國Emitech高真空離子濺射儀K575X/K575D的主要特點(diǎn)

1、全自動(dòng)控制

2、Peltier冷卻濺射頭

3、精細(xì)鍍層（0.5nm Cr粒子）

4、可傾斜的特殊旋轉(zhuǎn)臺(tái)作為標(biāo)準(zhǔn)配置

5、薄膜沉積（典型為5nm）

6、直徑為165mm腔室

7、可選雙濺射頭

8、可接膜厚測控儀

優(yōu)點(diǎn)：

● 可濺射易氧化金屬精細(xì)顆粒，如：鉻（Cr）或銥(Ir)

● 應(yīng)用范圍廣，除了可選濺射常用金屬靶材如：金銀鉑鈀銅錫鋁鎂鐵鈷鎳鉻鈦鉬鎢銥鉭等單質(zhì)純金屬靶材之外，還可選配金鈀合金靶、鉑鈀合金靶、碳靶以及ITO（氧化銦錫）靶等特殊靶材

● 易操作

● 無需水冷卻

● 高分辨率，可復(fù)制涂層

● 適應(yīng)各種樣品

● 重復(fù)膜厚沉積

● 樣品容易裝載和卸載

● 不需要打開真空即可進(jìn)行順序涂層

● 沉積厚度可預(yù)設(shè)

英國Emitech高真空離子濺射儀K575X/K575D的技術(shù)參數(shù)

1、儀器尺寸：450mm W x 350mm D x 175mm H

2、工作腔室：硼硅酸鹽玻璃 165mm Dia x 125mm H

3、安全鐘罩：聚碳酸酯

4、基座：110 mm直徑 x 115mm高

5、重量：42公斤

6、靶：54 mm 直徑 x 0.2mm 厚(鉻作為標(biāo)準(zhǔn)靶材)

7、樣品臺(tái)：50mm直徑，具有傾斜功能的旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)

8、操作真空：1 x 10-2 mbar到 1 x 10-4 mbar

9、濺射電流：0-150mA

10、沉積速率：0-20nm/分

11、濺射定時(shí)：0-4 分鐘

12、渦輪分子泵：60 litres/Second (極限真空 1x10-8 mbar)

13、真空泵：No 2. 泵complete with Vac. Hose & Oil Mist Filter 35L/Min 2m3/Hr

14、電源：230伏/50Hz(包括泵電流為6安培)