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廣電計量檢測集團股份有限公司

SYDC-100H控溫型浸漬提拉鍍膜機 垂直提拉機 提拉涂膜機 Dip Coater

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱上海三研科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號SYDC-100H
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2022/10/31 15:52:45
  • 訪問次數(shù)409
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工欲善其事 必先利其器 上海三研科技有限公司致力于為納米薄膜材料、納米粉體材料領(lǐng)域的科學(xué)研究及產(chǎn)品生產(chǎn)提供上等的儀器設(shè)備。我們的浸漬提拉鍍膜機產(chǎn)品用于溶膠-凝膠法制備納米薄膜材料。不同型號的提拉鍍膜機,可用于從10mm至2000mm不同尺寸基片的納米薄膜制備,可控制膜厚從幾十納米至幾百納米,可在恒溫、氣氛(氮氣)條件下鍍膜,可實現(xiàn)全自動多層材料的鍍膜。采用高精度進口零部件,運行穩(wěn)定、精密度高、無振動,鍍膜無條紋,設(shè)備免維護。我們的高精度程控勻膠機產(chǎn)品采用高速伺服電機,可用于基底的單面旋轉(zhuǎn)涂膜,基底材料可選硅片、玻璃、金屬、塑料等材質(zhì),基底尺寸從?10mm~?300mm均可涂膜,全自動程序控制,運行穩(wěn)定。我們可以提供溶膠-凝膠法制備薄膜材料的技術(shù)咨詢服務(wù),從前驅(qū)物的選擇、溶膠的配置、鍍膜、到熱處理等一系列的工藝過程都是我們熟悉并擅長的。
SYDC-100H控溫型浸漬提拉鍍膜機 垂直提拉機 提拉涂膜機 Dip Coater“是專門為液相(特別是sol-gel法)制備薄膜材料而設(shè)計,對不同液體在恒溫箱體中通過浸漬提拉生長薄膜。恒溫溫度、提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數(shù)(多次多層鍍膜)、鍍膜間隔時間均連續(xù)可調(diào)、精密控制。對鍍膜基質(zhì)無特殊要求,片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運行穩(wěn)定、液面無振動,可極大提高實驗精度與實驗效率。
SYDC-100H控溫型浸漬提拉鍍膜機 垂直提拉機 提拉涂膜機 Dip Coater 產(chǎn)品信息

SYDC-100H控溫型浸漬提拉鍍膜機 垂直提拉機 提拉涂膜機 Dip Coater

一. 產(chǎn)品簡介

控溫型浸漬提拉鍍膜機,主要用于在一定溫度下進行提拉鍍膜的情況。把潔凈干燥的基片浸入溶液(溶膠)中,通過預(yù)先設(shè)置的參數(shù),將浸漬后的基片以一定速度垂直提拉起來。在基片上附著一層膜,稱為濕凝膠膜,隨著濕凝膠膜膜層中溶劑的揮發(fā),膜層在基片上固化成為干凝膠膜。干凝膠膜經(jīng)過進一步的干燥及高溫?zé)崽幚肀愕玫剿璧募{米薄膜材料。

恒溫溫度、提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數(shù)(多次多層鍍膜)、鍍膜間隔時間均連續(xù)可調(diào)、精密控制。對鍍膜基質(zhì)無特殊要求,片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運行穩(wěn)定、工作時液面無振動,可極大提高實驗精度與實驗效率。

適用于硅片、玻璃、陶瓷、金屬等固體材料表面涂覆工藝。應(yīng)用于科學(xué)研究、產(chǎn)品生產(chǎn)。

三. 產(chǎn)品特點

1. 精密的垂直提拉裝置。*新升級為德國的垂直提拉裝置部件,采用特種功能材料制作,具有精密度高、傳動無間隙、運行平滑、耐腐蝕、終身免維護、使用壽命長等特點。

2. 采用伺服電機驅(qū)動。配合德國的垂直提拉裝置和程序控制系統(tǒng),確保運行精度及穩(wěn)定性; 伺服電機運轉(zhuǎn)時的高精度、平滑性、無抖動等特點是步進電機不可比擬的。

3. 多參數(shù)全自動程序控制。共有六個參數(shù)設(shè)置:下降速度、浸漬時間、提拉速度、鍍膜尺寸、鍍膜次數(shù)、鍍膜間隔時間,各參數(shù)均連續(xù)可調(diào),精密控制。鍍膜程序設(shè)定后,從下降到浸漬,再到提拉鍍膜的整個鍍膜過程全自動運行。

4. 鍍膜系統(tǒng)采用7英寸液晶觸摸屏使控制更方便;運行時,各項參數(shù)實時顯示,更直觀了解鍍膜進程;

5. 可設(shè)置多段程序控溫精密控溫,溫度均勻性高。整個鍍膜過程在恒溫溫度場內(nèi)進行,恒溫場溫度控制系統(tǒng)采用LCD液晶顯示。

6. 上下兩端均安裝有限位傳感器,提拉或下降運行時,到限位處自動停止,避免提拉或下降的超限運行。

7. 高、低速均運行平穩(wěn),運行連續(xù)、平滑。鍍膜時液面無振動,使成膜更均勻

8. 特殊設(shè)計的平口型夾具,兩面均勻夾持樣片,不會夾壞樣片;

四. 技術(shù)參數(shù)

1. 提拉速度范圍:1~6000 μm/s,*小分辨率1μm/s;

2. 適用基片尺寸:MIN 5×5 mm,MAX 100×100 mm,厚度MAX 10mm;

3. 浸漬時間:13600 s,*小分辨率1s;

4. 鍍膜次數(shù):11000次,*少1次;

5. 每次鍍膜間隔時間:13600 s,*小分辨率1s;

6. 恒溫溫度:RT+10200℃,溫度分辨率0.1℃;

7. 溫度波動度:≤±0.5℃

8. 恒溫場內(nèi)尺寸:340×320×320 mmW×D×H);

9. 電源:220V/50Hz

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