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離子研磨儀 IM4000II

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱日立集團
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2022/11/10 15:30:19
  • 訪問次數(shù)349
產(chǎn)品標簽:

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日立的企業(yè)宣言“Inspire the Next”代表著日立為社會奉獻,為新時代注入新活力的決心,以成為“解決方案合作商”為目標,為實現(xiàn)富有而便利的生活做出自己的貢獻。日立以集團愿景為行動方針,融合投入事業(yè)的極大熱情與專業(yè)能力,力爭在激烈的競爭環(huán)境中脫穎而出。
日立離子研磨儀標準機型IM4000Ⅱ能夠進行截面研磨和平面研磨。還可通過低溫控制及真空轉(zhuǎn)移等各種選配功能,針對不同樣品進行截面研磨。
離子研磨儀 IM4000II 產(chǎn)品信息

離子研磨儀 IM4000II

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離子研磨儀 IM4000II

日立離子研磨儀標準機型IM4000Ⅱ能夠進行截面研磨和平面研磨。還可通過低溫控制及真空轉(zhuǎn)移等各種選配功能,針對不同樣品進行截面研磨。

  • 特點

  • 選配項

  • 規(guī)格

特點

高效率的截面研磨

IM4000II配備截面研磨能力達到500 µm/h*1以上的高效率離子槍。因此,即使是硬質(zhì)材料,也可以高效地制備出截面樣品。

*1
在加速電壓6 kV下,將Si片從遮擋板邊緣突出100 µm并加工1小時的深度

樣品:Si片(2 mm厚)
加速電壓:6.0 kV
擺動角度:±30°
研磨時間:1小時

截面研磨時如果擺動的角度發(fā)生變化,加工的寬度和深度也會發(fā)生變化。下圖為Si片在擺動角度為±15°下進行截面研磨后的結(jié)果。除擺動角度以外,其他條件與上述加工條件一致。通過與上面結(jié)果進行對比后,可發(fā)現(xiàn)加工的深度變深。
對于觀察目標位于深處的樣品來說,能夠?qū)悠愤M行更快速的截面研磨。

樣品:Si片(2 mm厚)
加速電壓:6.0 kV
擺動角度:±15°
研磨時間:1小時

復(fù)合型研磨儀

截面研磨

  • 即使是由不同硬度以及研磨速度材質(zhì)所構(gòu)成的復(fù)合材料,也可以通過IM4000Ⅱ制備出平滑的研磨面
  • 優(yōu)化加工條件,降低因離子束所致樣品的損傷
  • 可裝載20 mm(W) × 12 mm(D) × 7 mm(H)的樣品

截面研磨的主要用途

  • 金屬以及復(fù)合材料、高分子材料等樣品的截面制備
  • 含有裂縫和空隙等特定位置的樣品截面制備
  • 多層樣品的截面制備以及對樣品EBSD分析的前處理

平面研磨

  • 直徑約為5mm范圍內(nèi)的均勻加工
  • 應(yīng)用領(lǐng)域廣泛
  • 可裝載直徑50 mm × 高度25 mm的樣品
  • 可選擇旋轉(zhuǎn)和擺動(±60度,±90度的擺動)2種加工方法

平面研磨的主要用途

  • 去除機械研磨中難以消除的細小劃痕和形變
  • 去除樣品表層部分
  • 消除因FIB加工所致的損傷層

選配項

低溫控制功能*1

將液氮裝入杜瓦罐中,以此作為冷卻源間接冷卻樣品。IM4000Ⅱ配有溫度調(diào)節(jié)控制功能,以防止樹脂和橡膠樣品過冷。

  • *1 需與主機同時訂購。

常溫研磨
常溫研磨

冷卻研磨(-100℃)
冷卻研磨(-100℃)

  • 樣品:減少塑料使用的功能性(紙質(zhì))隔離材料

真空轉(zhuǎn)移功能

離子研磨加工后的樣品可以在不接觸空氣的狀態(tài)下直接轉(zhuǎn)移到SEM*1、AFM*2上。真空轉(zhuǎn)移功能與低溫控制功能可同時使用。(平面研磨真空轉(zhuǎn)移功能不適用低溫控制功能)。

  • *1 僅支持帶有真空轉(zhuǎn)移交換倉的日立FE-SEM
  • *2 僅支持真空型日立AFM。

真空轉(zhuǎn)移功能

觀察加工過程的體式顯微鏡

右圖為用于觀察樣品加工過程的體式顯微鏡。搭載了CCD相機的三目型顯微鏡能夠在顯示器上進行觀察。也可配置雙目型體式顯微鏡。

察加工過程的體式顯微鏡

規(guī)格

主要內(nèi)容
使用氣體 氬氣
氬氣流量控制方式 質(zhì)量流量控制
加速電壓 0.0 ~ 6.0 kV
尺寸 616(W) × 736(D) × 312(H) mm
重量 主機53 kg+機械泵30 kg
截面研磨
研磨速度(Si材料) 500 µm/h*1以上
樣品尺寸 20(W)×12(D)×7(H)mm
樣品移動范圍 X±7 mm、Y 0 ~+3 mm
離子束間歇加工功能
開啟/關(guān)閉 時間設(shè)定范圍
1秒 ~ 59分59秒
擺動角度 ±15°、±30°、±40°
廣域截面研磨功能 -
平面研磨
加工范圍 φ32 mm
樣品尺寸 Φ50 X 25 (H) mm
樣品移動范圍 X 0~+5 mm
離子束間歇加工功能
開啟/關(guān)閉 時間設(shè)定范圍
1秒 ~ 59分59秒
旋轉(zhuǎn)速度 1 rpm、25 rpm
擺動角度 ±60°、± 90°
傾斜角度 0 ~ 90°
  • *1 將Si片從遮擋板邊緣突出100 µm并加工1小時的深度。

選配項

項目內(nèi)容
低溫控制功能*2 通過液氮間接冷卻樣品,溫度設(shè)定范圍:0°C ~ -100°C
超硬遮擋板 使用時間約為標準遮擋板的2倍(不含鈷)
加工過程觀察用顯微鏡 放大倍數(shù) 15× ~ 100× 雙目型、三目型(可裝CCD)
  • *2 需與主機同時訂購。冷卻溫度控制功能在使用時,部分功能可能使用有限。

關(guān)聯(lián)產(chǎn)品分類

  • 場發(fā)射掃描電子顯微鏡 (FE-SEM)
  • 掃描電子顯微鏡 (SEM)
  • 透射電子顯微鏡 (TEM/STEM)
15700106413
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