等離子拋光機基本原理介紹：

  等離子電漿拋光設(shè)備是利用工件與拋光液中通電脫離的金屬離子來達到拋光工件表面的結(jié)果。需要拋光的工件體吸附在工件表面，因電漿作用于工件凸起處，等離子在鹽溶液中形成高電流沖擊而去除工件凸部位，等離子拋光機特點是去除速度快、不破壞工件結(jié)構(gòu)。在等離子拋光過程中，由于電流的不斷流動，工件表面凹凸部位不斷變化，粗糙表面逐漸被整平，工件毛刺也被磨平整。以此達到拋光金屬工件的目的。

等離子拋光設(shè)備運行原理

  等離子也稱為物質(zhì)的第四態(tài)，是一種電磁氣態(tài)放電現(xiàn)象，使氣態(tài)粒子部分電離，這種被電離的氣體包括原子、分子、原子團、離子和電子。

  等離子的出現(xiàn)，就是在高溫高壓下，通過拋光劑水溶液的幫助，因在高溫高壓條件下，電子會脫離原子核而跑出來，這樣原子核就形成了一個帶正電子的離子，當(dāng)這些離子達到一定數(shù)量的時候可以組成為等離子態(tài)，等離子態(tài)能量很大，當(dāng)這些離子在和要拋光的物體摩擦?xí)r，頃刻間會使物體達到表面光亮的效果。速度是傳統(tǒng)拋光設(shè)備的。

同時，因為溶液不參加化學(xué)反應(yīng)，基本上零消耗，所以使用成本非常低，與傳統(tǒng)的化學(xué)電解拋光相比，成本基本可以忽略不計。

等離子拋光設(shè)備的優(yōu)勢

  等離子拋光機技術(shù)是一種全新的金屬表面處理工藝，等離子拋光過程中，僅是工件表面的分子層與等離子反應(yīng)，分子中原子一般間距為0.1～０.３nm，而大源智能等離子拋光技術(shù)處理深度為0.3～4.5納米。一般而言，拋光物的表面粗糙度在1mm范圍內(nèi)，因此等離子納米化學(xué)活化技術(shù)，可以的拋光工件表面，去除表面分子污染層，交叉鏈接表面化學(xué)物質(zhì)，在拋光金屬工件表面的同時，還能做到清潔油污的作用。

等離子拋光設(shè)備適用的行業(yè)：

  手機電子、集成電路制造、運動器材（高爾夫球具）、眼鏡制造、不銹鋼潔具、餐具、科研、手表飾品、汽車配件、LED制程、數(shù)碼配件、精密模具、航空航天及五金制品等行業(yè)，都需要用到等離子拋光設(shè)備。