一：磁控濺射真空鍍膜機(jī)介紹 

1）各種功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低溫沉積氮化硅減反射膜，以提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率。
（2）裝飾領(lǐng)域的應(yīng)用，如各種全反射膜及半透明膜等，如手機(jī)外殼，鼠標(biāo)等。
（3） 在微電子領(lǐng)域作為一種非熱式鍍膜技術(shù)，主要應(yīng)用在化學(xué)氣相沉積（CVD）或金屬有機(jī)
（4）化學(xué)氣相沉積（MOCVD）生長困難及不適用的材料薄膜沉積，而且可以獲得大面積非常均勻的薄膜。
（5） 在光學(xué)領(lǐng)域：中頻閉合場非平衡磁控濺射技術(shù)也已在光學(xué)薄膜（如增透膜）、低輻射玻璃和透明導(dǎo)電玻璃等方面得到應(yīng)用。特別是透明導(dǎo)電玻璃目前廣泛應(yīng)用于平板顯示器件、太陽能電池、微波與射頻屏蔽裝置與器件、傳感器等。
（6）在機(jī)械加工行業(yè)中，表面功能膜、超硬膜，自潤滑薄膜的表面沉積技術(shù)自問世以來得到長足發(fā)展，能有效的提高表面硬度、復(fù)合韌性、耐磨損性和抗高溫化學(xué)穩(wěn)定性能，從而大幅度地提高涂層產(chǎn)品的使用壽命。
磁控濺射除上述已被大量應(yīng)用的領(lǐng)域，還在高溫超導(dǎo)薄膜、鐵電體薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發(fā)光材料、太陽能電池、記憶合金薄膜研究方面發(fā)揮重要作用。

二： 磁控濺射真空鍍膜機(jī) 膜層

采用中頻濺射電鍍五金產(chǎn)品，使其具備更高的附加值，產(chǎn)品表面更加細(xì)膩迷人，顏色無層次感，是理想的表面裝飾鍍膜系統(tǒng)。 被譽(yù)為“裝飾鍍王機(jī)”。
該設(shè)備主要是（集）直流磁控濺射，中頻濺射和電弧離子蒸發(fā)三種技術(shù)融合一體，結(jié)合線離化源及泳沖偏壓鍍膜可使沉積顆粒細(xì)化。膜層各項(xiàng)性能提高，能在金屬制品及非金屬表面鍍制合金膜、化合物膜、多層復(fù)合膜等。經(jīng)公司技術(shù)人員多年專注研發(fā)，通過*的陰極電弧離子和非平衡磁控系統(tǒng)，開發(fā)出整套PROPOWER系列計(jì)算機(jī)自動(dòng)控制系統(tǒng)，使鍍膜膜層附著力強(qiáng)致密度、從復(fù)度一致性好等特點(diǎn)，解決了人工手動(dòng)操作復(fù)雜性、膜層顏色不一致等問題。廣泛適用于手表、首飾穿刺、手機(jī)殼、居家裝飾五金、衛(wèi)浴潔具、餐具等?？慑冎芓in、Tio、TiCN、CrN、TiALN、TiNbu、ZrN、TiNC等等各種性能的各種顏色。
1、磁控濺射的原理是基于陰極輝光放電理論，把陰極表面磁場擴(kuò)展到接近工作表面，提高了濺射原子離化率。既保留磁控濺射的細(xì)膩又增強(qiáng)了表面光澤度。
2、電弧等離子體蒸發(fā)源性能可靠，在優(yōu)化陰極及磁場結(jié)構(gòu)鍍膜時(shí)可在30A電流下工作，鍍膜膜層和基底界面產(chǎn)生原子擴(kuò)散，又具有離子束輔助沉積的特點(diǎn)。 

三：磁控濺射真空鍍膜機(jī)常用設(shè)備

1.中頻磁控濺射真空鍍膜機(jī)
  
   中頻磁控濺射技術(shù)已漸成為濺射鍍膜的主流技術(shù)，它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜
   特點(diǎn)是克服了陽極消失現(xiàn)像，減弱或消除靶的異?；」夥烹?，因此提高了濺射過程的工藝穩(wěn)定性，同時(shí)提高了介質(zhì)膜的沉積速率數(shù)倍
   所用的平面靶，圓柱靶，對(duì)靶等多種形式的中頻濺射靶結(jié)構(gòu)和布局，該設(shè)備廣泛用于，表殼，表帶，手機(jī)殼，高爾夫球具，五金，餐具等鍍TiN,TiC,TICN,TiAIN,CrN等各種裝飾膜層

2.五金首飾真空鍍膜機(jī)
   集成了直流磁控濺射，中頻濺射和電弧離子蒸發(fā)技術(shù)，結(jié)合線性電離源和脈沖偏壓涂層薄的沉積顆粒，各種膜性能的改善，能大衣合金薄膜，多層復(fù)合膜的金屬
    表面是以及非金屬，，通過的陰極電弧離子和非平衡磁控系統(tǒng)，我們開發(fā)了一套計(jì)算機(jī)自動(dòng)控制使涂膜附著力密度以及復(fù)雜的一致
    性好，解決手工操作復(fù)雜性，膜的顏色不一致問題等。
   五金首飾真空鍍膜機(jī)特點(diǎn)：*磁控濺射的原理是基于陰極輝光放電理論，擴(kuò)大在陰極表面磁場接近工件表面，以增加濺射原子的電離率，
                           它保留了磁控濺射的細(xì)膩和光澤度增加
                           *電弧等離子體蒸發(fā)源性能可靠，能夠根據(jù)工作電流30A時(shí)，優(yōu)化陰極和磁場結(jié)構(gòu)涂層，涂膜和基材界面產(chǎn)生原子口散，在加上離子束輔功能沉積
   五金首飾真空鍍膜機(jī)應(yīng)用：廣泛應(yīng)用于IPG時(shí)鐘，IPS手表和鐘表，的IP，手機(jī)外殼，五金，潔具，刀具，防摩擦的工具，模具，它可以制備
                            TiN,TiCN涂層,氮化TIALN,TiNbu,TiCrN,氮化鋯,各類鉆石膜(DLC)
  
3.磁控濺射（EMI）專用鍍膜設(shè)備
       應(yīng)用于手提電腦,手機(jī)殼,電話,無線通訊,視聽電子,遙控器,導(dǎo)航和科研工具等,全自動(dòng)控制,配置大功率磁控電源,雙靶交替使用,
       恒流輸出,的工件架合理設(shè)計(jì),公自轉(zhuǎn),產(chǎn)量大,良品率高,利用石英晶振厚儀測量膜層厚度,可鍍制精確的膜層厚度,PLC機(jī)界面自動(dòng)控制系統(tǒng),隨時(shí)可修改鍍膜參數(shù)
      

4磁控濺射/真空蒸發(fā)復(fù)合型鍍膜設(shè)備
      
　  磁控濺射/真空蒸發(fā)復(fù)合型鍍膜設(shè)備將磁控技術(shù)和真空蒸發(fā)技術(shù)結(jié)合在同一真空鍍膜設(shè)備里,既利用磁控濺射防極輝光放電將靶材原子濺射出并部分離化
    沉積在基材上成膜,同時(shí)又利用在真空中以電阻加熱將金屬鍍料熔融并讓其汽化在沉積在基材上成膜,增加了設(shè)備的用途和靈活性,該設(shè)備應(yīng)用于
    手機(jī)殼等表面金屬化,應(yīng)用于不導(dǎo)電膜和電磁屏蔽膜沉積,
          磁控濺射/真空蒸發(fā)復(fù)合型鍍膜設(shè)備主要特點(diǎn)是它配軒了等離子體處理裝置,高效磁控濺射陰極和電阻蒸發(fā)裝置,設(shè)備沉積速率快,鍍層
          附著力好,鍍層細(xì)膩致密,表面光潔度高,且均勻性一致性良好,實(shí)現(xiàn)鍍膜工藝全自動(dòng)化控制,裝載量大,工作可靠,合格率高,生產(chǎn)成本低
          綠色環(huán)保,主要用于電腦殼,手機(jī)殼,家用電器等行業(yè).可鍍制金屬膜,合金膜,復(fù)合膜層,透明,半透明膜,不導(dǎo)電膜,電磁屏蔽膜等