專用掃描透射顯微鏡HD-2700，配備了與德國CEOS GmbH公司(總經(jīng)理Max Haider先生)共同開發(fā)的球差校正儀，顯著提高了掃描透射電子顯微鏡的性能，更適合高級納米技術研究。由于球差校正系統(tǒng)校正了限制電子顯微鏡的性能的球差，使其與標準型號顯微鏡相比，分辨率提高了1.5倍，同時，探針電流提高了10倍。

最近，該顯微鏡還配備了高分辨率鏡頭和冷場發(fā)射電子槍，進一步提高了圖像分辨率和電子束能量分辨率。同時，該型號系列還增加了一款不帶球差校正的主機配置，可以以后加配球差校正進行升級。

特點與優(yōu)勢

高分辨率掃描透射電子顯微鏡成像

HAADF-STEM圖像0.136 nm，F(xiàn)FT圖像0.105 nm(高分辨率鏡頭*)

HAADF-STEM圖像0.144 nm(標準鏡頭)

明場掃描透射電子顯微鏡圖像0.204 nm(w/o球差校正儀)

高速，高靈敏度能譜分析：探針電流×10倍

元素面分布更迅速及時

低濃度元素檢測

操作簡化

自動圖像對中功能

從樣品制備到觀察分析實現(xiàn)無縫連接

樣品桿與日立聚焦離子束系統(tǒng)兼容

配有各種選購件可執(zhí)行各種評估和分析操作

同時獲取和顯示SE&BF, SE&DF, BF&DF, DF/EDX面分布*和DF/EELS面分布*圖像。

低劑量功能*(使樣品的損傷和污染程度降至)

高精度放大校準和測量*

實時衍射單元*(同時觀察暗場-掃描透射電子顯微鏡圖像和衍射圖案)

采用三維微型柱旋轉(zhuǎn)樣品桿(360度旋轉(zhuǎn))*，具有自動傾斜圖像獲取功能。

ELV-3000即時元素面分布系統(tǒng)*(同時獲取暗場-掃描透射電子顯微鏡圖像)