賽默飛 Nexsa™ X 射線光電子能譜儀 (XPS) 系統(tǒng)能提供全自動、高通量的多技術分析，并可保持研究級結果的高質量水平。ISS、UPS、REELS、拉曼等多種分析技術集于一身，用戶因此能夠進行真正意義上的相關性分析，從而為微電子、超薄膜、納米技術開發(fā)以及許多其他應用進一步取得進展釋放潛能。
賽默飛 Nexsa™ X 射線光電子能譜儀 (XPS) 具有靈活性，可限度地發(fā)揮材料潛能。在使結果保持研究級質量水平的同時，以多重整合技術選項的形式提供靈活性，從而實現(xiàn)真正意義上的相關性數(shù)據(jù)分析和高通量。
標準化功能催生強大性能：
絕緣體分析
高性能光譜
深度剖析
多技術整合
雙模式離子源，使深度剖析功能得到擴展
用于 ARXPS 測量的傾斜模塊
用于儀器控制、數(shù)據(jù)處理和報告的 Avantage 軟件
小光斑分析
可選的升級：可將任何全自動化集成技術添加到您的分析中。觸動按鈕即可運行。
ISS：在離子散射光譜技術中，一束離子可被某物體表面散射
UPS：紫外光電子能譜是指對吸收了紫外光子的分子所發(fā)射的光電子動能譜進行測量，以確定化合價區(qū)域中的分子軌道能量
拉曼：能譜技術在化學領域被用于提供結構指紋
REELS：反射電子能量損失譜
借助 SnapMap 的光學視圖，聚焦于樣品特征。光學視圖可以幫助您快速定位感興趣區(qū)域，同時生成聚焦的 XPS 圖像，以進一步定義您的實驗。
X 射線照射樣品上的一個小區(qū)域。
收集來自這一小區(qū)域的光電子并將其聚焦于分析儀
隨著鏡臺的移動，不斷采集能譜
在整個數(shù)據(jù)采集過程中監(jiān)測鏡臺位置，這些位置用來生成 SnapMap