儀器介紹

RHA-SGC-10薄膜測厚儀，適用于介質(zhì)，半導(dǎo)體，薄膜濾光片和液晶等薄膜和涂層的厚度測量。該薄膜測厚儀，是我公司與美國new-span公司合作研制的，采用new-span公司*的薄膜測厚技術(shù)，基于白光干涉的原理來測定薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù)（折射率n，消光系數(shù)k）。通過分析薄膜表面的反射光和薄膜與基底界面的反射光相干形成的反射譜，用軟件來擬合運(yùn)算，得到單層或多層膜系各層的厚度d，折射率n，消光系數(shù)k。該設(shè)備關(guān)鍵部件均為國外進(jìn)口，也可根據(jù)客戶需要整機(jī)進(jìn)口。

- 強(qiáng)大的軟件功能

界面友好，操作簡便，用戶點(diǎn)擊幾下鼠標(biāo)就可以完成測量。便捷快速的保存、讀取測量得到的反射譜數(shù)據(jù)數(shù)據(jù)處理功能強(qiáng)大，可同時(shí)測量多達(dá)四層的薄膜的反射率數(shù)據(jù)。一次測量即可得到四層薄膜分別的厚度和光學(xué)常數(shù)等數(shù)據(jù)。材料庫中包含了大量常規(guī)的材料的光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)。用戶可以非常方便地自行擴(kuò)充材料數(shù)據(jù)庫。

- 產(chǎn)品功能適用性

該儀器適用于多種介質(zhì)，半導(dǎo)體，薄膜濾光片和液晶等薄膜和涂層的厚度測量。

- 典型的薄膜材料為

SiO2、CaF2、MgF、光刻膠、多晶硅、非晶硅、SiNx、TiO2、聚酰亞胺、高分子膜。

- 典型的基底材料為

SiGe、GaAs、ZnS、ZnSe、鋁丙烯酸、藍(lán)寶石、玻璃、聚碳酸酯、聚合物、石英。

儀器具有開放性設(shè)計(jì)，儀器的光纖探頭可很方便地取出，通過儀器附帶的光纖適配器（如圖所示）連接到帶C-mount適用于微區(qū) gt;10μm，與顯微鏡放大率有關(guān)）薄膜厚度的顯微鏡（顯微鏡需另配），就可以使本測量儀測量。

基本配置及參數(shù)