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廣電計(jì)量檢測(cè)集團(tuán)股份有限公司

上海伯東代理KRI 考夫曼離子源 KDC 75 實(shí)驗(yàn)室儀器設(shè)備

參考價(jià) 600000
訂貨量 ≥1
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱伯東企業(yè)(上海)有限公司
  • 品       牌其他品牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地上海市
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 更新時(shí)間2023/5/10 9:44:37
  • 訪問(wèn)次數(shù)265
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上海伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國(guó) KRI 考夫曼離子源, 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口的*代理商.

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上海伯東: 葉小姐                                  中國(guó)臺(tái)灣伯東: 王小姐
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原子力顯微鏡,霍爾效應(yīng)測(cè)量?jī)x,質(zhì)譜分析儀,檢漏儀
產(chǎn)地 進(jìn)口
上海伯東代理美國(guó)進(jìn)口 KRI 考夫曼離子源 KDC 75:緊湊柵極離子源,離子束直徑 14 cm ,可安裝在 8“CF法蘭. 適用于中小型腔內(nèi), 考夫曼離子源 KDC 75 包含2個(gè)陰極燈絲, 其中一個(gè)作為備用,KDC 75 提供緊密聚焦的電子束特別適合濺射鍍膜. 標(biāo)準(zhǔn)配置下離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過(guò) 250 mA.
上海伯東代理KRI 考夫曼離子源 KDC 75 實(shí)驗(yàn)室儀器設(shè)備 產(chǎn)品信息
考夫曼離子源 KDC 75

KRI 考夫曼離子源 KDC 75
上海伯東代理美國(guó)進(jìn)口 KRI 考夫曼離子源 KDC 75:緊湊柵極離子源,離子束直徑 14 cm ,可安裝在 8“CF法蘭. 適用于中小型腔內(nèi), 考夫曼離子源 KDC 75 包含2個(gè)陰極燈絲, 其中一個(gè)作為備用,KDC 75 提供緊密聚焦的電子束特別適合濺射鍍膜. 標(biāo)準(zhǔn)配置下離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過(guò) 250 mA.
 

KRI 考夫曼離子源 KDC 75 技術(shù)參數(shù)

型號(hào)

KDC 75 / KDC 75L(低電流輸出)

供電

DC magnetic confinement

 - 陰極燈絲

2

 - 陽(yáng)極電壓

0-100V DC

電子束

OptiBeam™

 - 柵極

專用, 自對(duì)準(zhǔn)

 -柵極直徑

7.5 cm

中和器

燈絲

電源控制

KSC 1212 或 KSC 1202

配置

-

 - 陰極中和器

Filament, Sidewinder Filament  或LFN 2000

 - 安裝

移動(dòng)或快速法蘭

 - 高度

7.9'

 - 直徑

5.5'

 - 離子束

聚焦
平行
散設(shè)

 -加工材料

金屬
電介質(zhì)
半導(dǎo)體

 -工藝氣體

惰性
活性
混合

 -安裝距離

6-24”

 - 自動(dòng)控制

控制4種氣體

* 可選: 一個(gè)陰極燈絲; 可調(diào)角度的支架

KRI 考夫曼離子源 KDC 75 應(yīng)用領(lǐng)域
濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD
離子蝕刻 IBE


客戶案例: 超高真空離子刻蝕機(jī) IBE, 真空度 5E-10 torr, 系統(tǒng)配置
美國(guó) KRI 考夫曼離子源 KDC 75
考夫曼離子源 KDC 75

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上海伯東: 羅先生


關(guān)鍵詞:刻蝕機(jī)
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