設(shè)備采用*的磁控濺射鍍膜技術(shù),配備直流+射頻磁控濺射系統(tǒng),用于在PET等柔性薄膜上鍍制功能性薄膜。
一、 系統(tǒng)設(shè)計(jì)簡(jiǎn)介
1. 系統(tǒng)真空指標(biāo):
1.1 濺射室極限真空度:≤1.4x10-4Pa(經(jīng)烘烤除氣后);
1.2 系統(tǒng)真空檢漏漏率:≤5.0x10-7Pa.l/S;
1.3 系統(tǒng)從大氣開(kāi)始抽氣:濺射室40分鐘可達(dá)到6.6x10-4 Pa;
1.4 系統(tǒng)停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后真空度:≤10Pa;
2. 真空室設(shè)計(jì):
真空室為D形前開(kāi)門(mén)結(jié)構(gòu),約為尺寸Ф600mmx400mm,全不銹鋼結(jié)構(gòu)??赏夂婵镜?00~150℃,選用不銹鋼材料制造,氬弧焊接,表面進(jìn)行電化學(xué)拋光家鈍化處理,接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封;手動(dòng)前開(kāi)門(mén)結(jié)構(gòu);
3. 磁控靶系統(tǒng)
3.1 柱狀靶材尺寸:Ф70mm×180mm 2套;
3.2 平面靶尺寸:180mm×75mm 1套;
3.3 提供靶材:不銹鋼測(cè)試靶材3塊
3.4 靶在下,向上濺射,分布在一個(gè)圓周上,各靶可獨(dú)立/順次/共同工作;
3.5 3kw直流電源2臺(tái)(數(shù)字式電源 );
3.6 500w自動(dòng)調(diào)諧射頻電源1臺(tái);
3.7 磁控靶與基片的距離為:70mm。
4. 卷繞機(jī)構(gòu):
4.1、PET材料卷經(jīng):Φ150mm,寬幅:150mm
4.2、卷繞機(jī)構(gòu)使用張力傳感器、伺服電機(jī)、離合器、磁流體、減速器等;
4.3、鍍膜水冷轉(zhuǎn)輪一臺(tái),直徑約為250mm;
4.4、基體材料的復(fù)卷裝置配備了全閉環(huán)數(shù)字式直接張力檢測(cè)及伺服系統(tǒng)配合的卷繞控制系統(tǒng)。自動(dòng)張力控制器通過(guò)采自張力傳感器的張力信號(hào)實(shí)現(xiàn)鍍膜過(guò)程中基體材料收、放卷卷繞的恒張力自動(dòng)控制;鍍膜輥采用伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng)。
4.5、卷繞和驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)與真空室門(mén)連體安裝在一個(gè)由電機(jī)驅(qū)動(dòng)的行走車(chē)上,隨門(mén)一起開(kāi)合?;木砝@系統(tǒng)由放卷裝置、鍍膜主輥、收卷裝置、過(guò)渡導(dǎo)輥、張力輥、測(cè)速輥等組成,以及安裝這些輥系的前后墻板等部件組成。系統(tǒng)采用伺服電機(jī)控制驅(qū)動(dòng)基體材料的收、放卷轉(zhuǎn)軸和鍍復(fù)主輥運(yùn)轉(zhuǎn),來(lái)控制基體材料放卷卷繞和收卷卷繞操作。
放卷裝置:包括1套放卷轉(zhuǎn)軸夾持裝置、伺服電機(jī)
鍍膜主輥:1個(gè),包括1套多通路的冷卻主輥,表面拋光后鍍鉻,伺服電機(jī)
收卷裝置:包括1套收卷轉(zhuǎn)軸夾持裝置、伺服電機(jī)
收放卷軸:3寸卷芯用氣漲軸2根
卷繞導(dǎo)輥:導(dǎo)向輥經(jīng)過(guò)表面硬化及拋光處理
張力輥:2個(gè),導(dǎo)向輥經(jīng)過(guò)表面硬化及拋光處理
測(cè)速輥;1個(gè)
基材卷繞系統(tǒng)安裝在移動(dòng)小車(chē)之上,可沿著導(dǎo)軌運(yùn)行,將其送入或退出真空工作室,以便于進(jìn)行更換鍍件以及對(duì)裝置進(jìn)行清潔處理。