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Mattson刻蝕機Asher設備 Aspen 3 Lite

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公司名稱青島佳鼎分析儀器有限公司
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廠商性質其他
更新時間2023/6/21 18:58:09
訪問次數(shù)308

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公司介紹主營產品

青島佳鼎實驗室，坐落于城之向陽地——城陽。自2011年成立之初，便誓將科技之光照耀四方。
十年的時間里，公司因擴展數(shù)度搬遷，最后選擇接受博士創(chuàng)業(yè)園的吸納并安家落戶。與此名交相輝映的是我們30余人的研發(fā)團隊，也是以博士后為主。這就為我們今后的發(fā)展奠定了堅實的基礎，使我們在未來的發(fā)展中，有底氣的大踏步前進。目前，佳鼎實驗室已經形成了一站式服務，不僅有實驗室分析儀器設備的研發(fā)和銷售，更有實驗室的整體交付。做到了初時毛坯，再見時嚴謹整潔，隨時可以為人類健康貢獻自己的力量。
產品服務于各行各業(yè)，從科研機構到環(huán)境、食品，從醫(yī)藥生物到電子電器。我們從不止步于國內，放眼，我們聯(lián)合了包括美國賽默飛世爾、日本島津、在內的多國實驗室，并且積累了大量的科研資料，在分析設備的研發(fā)領域做了大量的深度工作。
佳鼎實驗室堅信以質量為生命，以客戶為中心的經營理念，為打造實驗室建設規(guī)范化而不斷奮斗。

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AspenIII基于具有接地法拉第屏蔽的專有ICP源設計，為半導體制造商提供經過生產驗證且具有成本效益的剝離和蝕刻解決方案

Mattson刻蝕機Asher設備 Aspen 3 Lite 產品信息

Aspen III 基于具有接地法拉第屏蔽的專有 ICP 源設計，為半導體制造商提供經過生產驗證且具有成本效益的剝離和蝕刻解決方案。Aspen III 的平臺設計可處理 200 毫米和 300 毫米晶圓，并支持特殊晶圓處理，包括翹曲和半透明晶圓。的工藝室架構可以滿足業(yè)內的設備制造商跨多個技術節(jié)點的技術要求。

產品特點：

平臺
- 200 mm / 300 mm 橋接工具
- 玻璃/石英/半透明晶圓處理
- 翹曲 (> 5 mm) 晶圓處理
- 雙晶圓室設計，獨立晶圓控制
- 單或雙工藝室選項
- 高速機器人
- 真空負載鎖
- 安裝了 500 多個系統(tǒng)
ICP HT / Strip 處理室
- 專有法拉第屏蔽ICP源
- 還原和氟化學能力
- 耗材成本低
LiteEtch 工藝室
- 高濃度氟工藝的各向同性蝕刻
- 耐氟室設計
eHighlands 蝕刻和剝離工藝室
- 偏置能力
- 低溫（10°C 至 80°C）能力
- 低壓（5 mT 至 300 mT）能力